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唐利
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3
被引量:2
H指数:1
供职机构:
重庆光电技术研究所
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相关领域:
电子电信
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合作作者
汪凌
重庆光电技术研究所
李贝
重庆光电技术研究所
廖晓航
重庆光电技术研究所
任利平
重庆光电技术研究所
袁安波
重庆光电技术研究所
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汪凌
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 放大器 复合介质 光刻胶 减薄
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任利平
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 放大器 热载流子效应 BCCD PIN光电二极管
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廖晓航
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD MPP 温度 特性分析 成像
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供职机构
所获资助
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袁安波
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
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所获资助
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韩恒利
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 放大器 成像 减薄 图像传感器
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廖乃镘
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
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吕玉冰
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 可见光CCD 内线 CMOS图像传感器 光电特性
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刘方
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 光刻胶 离子注入 斜坡 特征尺寸
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
李贝
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:表面光电压 铁离子 沾污 电荷耦合器件 硅片清洗
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相关人物
供职机构
所获资助
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