您的位置： 专家智库 > >

唐利

作品数：3 被引量：2H指数：1
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 9个电子电信
  • 4个自动化与计算...
  • 1个化学工程
  • 1个电气工程
  • 1个航空宇航科学...
  • 1个一般工业技术
  • 1个理学

主题

  • 8个CCD
  • 6个放大器
  • 5个离子注入
  • 4个电荷耦合
  • 4个电荷耦合器
  • 4个电荷耦合器件
  • 4个特征尺寸
  • 4个图像
  • 4个图像传感器
  • 4个斜坡
  • 4个光电
  • 4个感器
  • 4个BCCD
  • 4个传感
  • 3个氮化
  • 3个氮化硅
  • 3个电路
  • 3个多晶
  • 3个多晶硅
  • 3个成像

机构

  • 9个重庆光电技术...
  • 1个电子科技大学

资助

  • 1个国家杰出青年...
  • 1个国家重大航天...
  • 1个教育部“新世...
  • 1个中国人民解放...

传媒

  • 9个半导体光电
  • 5个电子科技
  • 3个电子技术（上...
  • 2个集成电路应用
  • 1个光电子．激光
  • 1个物理学报
  • 1个材料导报
  • 1个物理化学学报
  • 1个中国科学（E...
  • 1个传感技术学报
  • 1个航天器工程
  • 1个第八届中国微...
  • 1个中国光学学会...

地区

  • 9个重庆市
共 9 条 记 录，以下是 1-9
汪凌
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 放大器 复合介质 光刻胶 减薄
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任利平
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 放大器 热载流子效应 BCCD PIN光电二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖晓航
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 温度 特性分析 成像
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁安波
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩恒利
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 放大器 成像 减薄 图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖乃镘
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕玉冰
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 可见光CCD 内线 CMOS图像传感器 光电特性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻胶 离子注入 斜坡 特征尺寸
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李贝
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：表面光电压 铁离子 沾污 电荷耦合器件 硅片清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0