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廖晓航

作品数:4 被引量:4H指数:1
供职机构:重庆光电技术研究所更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇CCD
  • 1篇载流子
  • 1篇特性分析
  • 1篇热载流子
  • 1篇热载流子效应
  • 1篇温度
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇近红外
  • 1篇刻蚀
  • 1篇红外
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀
  • 1篇放大器
  • 1篇BCCD
  • 1篇MPP
  • 1篇成像

机构

  • 4篇重庆光电技术...

作者

  • 4篇廖晓航
  • 2篇汪凌
  • 2篇任利平
  • 2篇岳志强
  • 1篇李仁豪
  • 1篇廖乃镘
  • 1篇苏玉棉
  • 1篇刘昌林
  • 1篇韩恒利
  • 1篇吴琼瑶
  • 1篇曲鹏程
  • 1篇唐利
  • 1篇柳益
  • 1篇雷仁方

传媒

  • 2篇半导体光电
  • 1篇电子科技
  • 1篇电子技术(上...

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2014
  • 2篇2011
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
热载流子效应对CCD片上放大器寿命的影响被引量:1
2014年
针对CCD片上放大器的寿命进行了研究。通过设计独立的MOSFET,使用衬底电流模型进行热载流子效应分析,研究其特性参数Gm退化量与退化时间关系,由此评价组成CCD片上放大器的寿命。研究结果表明,CCD片上放大器寿命随着栅长的减小而降低,制作LDD结构可提高CCD片上放大器寿命。
汪凌唐利廖晓航任利平
关键词:CCD放大器热载流子效应
近红外增强CCD成像器件研究被引量:1
2021年
阐述采用背照式CCD工艺,制备一种新型的近红外增强CCD。相比较传统的近红外增强CCD(增加外延层厚度),基于反应离子刻蚀法在该器件背面进行了黑硅制作,在紫外光(波长250nm)到近红外光(波长2500nm)都具有高吸收率,可以增强CCD近红外响应灵敏度。结果表明,在400~1060nm波长范围内,黑硅反射率小于7%,吸收率大于93%。黑硅CCD近红外响应得到增强,与常规CCD相比,在波长950~1060nm的量子效率分别从34%和1%提高到41.8%和16.1%。
曲鹏程陈清华吴琼瑶廖乃镘岳志强廖晓航刘昌林
关键词:反应离子刻蚀
MPP CCD扩散暗电流温度特性分析被引量:2
2011年
研究了MPP CCD扩散暗电流的温度特性,分析了扩散暗电流在不同温度下对器件总暗电流的贡献和不同处理方式对评估器件高温暗电流的影响,并对此进行了实验验证。结果表明,扩散暗电流在高温下对器件总暗电流的影响很大,占据支配地位,是器件高温暗电流的主要来源。提出了两种优化方法,以降低扩散暗电流对器件高温暗电流的影响,提高MPP CCD的高温环境工作能力。
雷仁方李仁豪廖晓航
关键词:温度MPPCCD
BCCD沟道电势直流测试方法研究
2011年
提出了一种对BCCD(埋沟电荷耦合器件)沟道电势的直流测试方法,并对此进行了理论分析和实验研究,该方法能快速、准确地进行BCCD沟道电势测试,确定BCCD随栅压变化的沟道电势曲线。实验结果表明,选取宽长比为11/5的NMOS管、源电流为0.01μA的测试条件,能够很好地模拟BCCD的工作状态。通过对1 024×1 024可见光BCCD进行验证测试,证实该方法可靠。
汪凌韩恒利任利平廖晓航柳益苏玉棉岳志强
关键词:BCCD
共1页<1>
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