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李志栓

作品数:18 被引量:5H指数:2
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领域

  • 17个电子电信
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  • 1个一般工业技术
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主题

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  • 13个光刻
  • 10个光刻胶
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  • 8个导体
  • 8个膜层
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  • 5个氮化硅
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  • 5个导通电阻
  • 5个划伤
  • 5个刮擦
  • 5个半导体结构
  • 4个电极

机构

  • 19个杭州士兰集成...
  • 1个杭州士兰微电...

资助

  • 2个国家科技重大...
  • 1个北京市自然科...
  • 1个国家自然科学...

传媒

  • 8个半导体技术
  • 3个中国集成电路
  • 3个2014`全...
  • 1个电子测试
  • 1个计量技术
  • 1个微纳电子技术
  • 1个电子与封装

地区

  • 19个浙江省
19 条 记 录,以下是 1-10
杨彦涛
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:沟槽 功率器件 接触孔 功率半导体器件 半导体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王平
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:外延层 功率半导体器件 沟槽 导电类型 掺杂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汤光洪
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:沟槽 刻蚀 半导体 光刻胶 功率器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李立文
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:硅片 光刻设备 光刻工艺 光刻版 沟槽
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张常军
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:电容 TVS器件 外延层 二极管 半导体集成
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵学峰
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:掺杂 半导体器件 光刻 刻蚀 接触区
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗宁
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:乙硼烷 掺硼 布线结构 保质期 半导体制程
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向璐
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:沟槽 功率器件 光刻设备 接触孔 套刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘旺
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:反向漏电流 反向电压 二极管芯片 高压二极管 漏电
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周琼琼
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:外延层 VCC TVS器件 TVS 淀积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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