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刘方

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 6个电子电信
  • 2个自动化与计算...
  • 1个化学工程
  • 1个航空宇航科学...

主题

  • 6个光刻
  • 5个CCD
  • 4个电荷耦合
  • 4个电荷耦合器
  • 4个电荷耦合器件
  • 4个特征尺寸
  • 4个斜坡
  • 4个离子注入
  • 3个氮化
  • 3个氮化硅
  • 3个低压化学气相...
  • 3个电路
  • 3个淀积
  • 3个退火
  • 3个气相淀积
  • 2个低温退火
  • 2个电路制造
  • 2个多晶
  • 2个多晶硅
  • 2个载流子

机构

  • 6个重庆光电技术...

资助

  • 1个国家重大航天...

传媒

  • 6个半导体光电
  • 3个电子科技
  • 1个半导体情报
  • 1个电子技术（上...
  • 1个航天器工程
  • 1个集成电路应用
  • 1个2004全国...

地区

  • 6个重庆市
共 6 条 记 录，以下是 1-6
袁安波
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐利
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 放大器 光刻胶 离子注入 斜坡
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李仁豪
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 TDI 读出电路 表面光电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李贝
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：表面光电压 铁离子 沾污 电荷耦合器件 硅片清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张故万
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 完整性 SI 本征吸杂 复合介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汪凌
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 放大器 复合介质 光刻胶 减薄
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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