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袁安波

作品数:15 被引量:20H指数:3
供职机构:重庆光电技术研究所更多>>
发文基金:国家重大航天工程更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术航空宇航科学技术更多>>

领域

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主题

  • 24个CCD
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  • 17个电荷耦合器
  • 17个电荷耦合器件
  • 15个刻蚀
  • 14个光刻
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  • 7个面阵
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  • 6个内线
  • 6个气相淀积

机构

  • 25个重庆光电技术...
  • 5个北京空间机电...
  • 1个北京空间飞行...
  • 1个电子科技大学

资助

  • 6个国家重大航天...
  • 3个国家科技重大...
  • 1个国家杰出青年...
  • 1个教育部“新世...
  • 1个中国人民解放...

传媒

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  • 1个物理化学学报
  • 1个中国科学(E...
  • 1个传感技术学报
  • 1个光电子技术
  • 1个质量与可靠性

地区

  • 25个重庆市
  • 6个北京市
31 条 记 录,以下是 1-10
向鹏飞
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 选择比 反应离子刻蚀 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨修伟
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 选择比 光刻 阵列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高建威
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 光刻 选择比 刻蚀 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李睿智
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 光电探测器 电荷耦合器件 Γ辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖乃镘
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曾武贤
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD I-A APD 保护环 硅基
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李贝
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:表面光电压 铁离子 沾污 电荷耦合器件 硅片清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曲鹏程
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 电荷耦合器件 选择比 刻蚀 图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙飞
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD TDI 高分辨率 可见光CCD 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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