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吴可

作品数：4 被引量：1H指数：1
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 10个电子电信
  • 3个自动化与计算...
  • 2个化学工程
  • 1个理学

主题

  • 10个CCD
  • 9个光刻
  • 6个电荷耦合
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  • 5个淀积
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机构

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传媒

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  • 1个电子技术（上...
  • 1个光电子技术
  • 1个中国检验检测

地区

  • 10个重庆市
共 10 条 记 录，以下是 1-10
张故万
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 完整性 SI 本征吸杂 复合介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李佳
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 电荷耦合器件 阵列 电荷转换
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向鹏飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 选择比 反应离子刻蚀 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖乃鏝
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD成像 CCD 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD TDI 高分辨率 可见光CCD 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
伍明娟
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 穿刺 铝 金属化 接触孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邓涛
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 光刻工艺 ITO薄膜 选择比
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汪凌
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 放大器 复合介质 光刻胶 减薄
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李仁豪
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 TDI 读出电路 表面光电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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