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高建威

作品数：6 被引量：8H指数：2
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

领域

  • 9个电子电信
  • 6个自动化与计算...
  • 1个化学工程
  • 1个电气工程
  • 1个航空宇航科学...

主题

  • 9个CCD
  • 7个电荷耦合
  • 7个电荷耦合器
  • 7个电荷耦合器件
  • 7个光刻
  • 5个图像
  • 5个图像传感器
  • 5个面阵
  • 5个刻蚀
  • 4个电路
  • 4个多晶
  • 4个多晶硅
  • 4个选择比
  • 4个氧化硅
  • 4个阵列
  • 4个探测器
  • 4个内线
  • 3个氮化
  • 3个氮化硅
  • 3个低损耗

机构

  • 9个重庆光电技术...

资助

  • 1个国家重大航天...

传媒

  • 9个半导体光电
  • 7个电子科技
  • 4个电子技术（上...
  • 2个红外技术
  • 1个光电子技术
  • 1个航天器工程
  • 1个集成电路应用

地区

  • 9个重庆市
共 9 条 记 录，以下是 1-9
杨修伟
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 选择比 光刻 阵列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向鹏飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 选择比 反应离子刻蚀 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁安波
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邓涛
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 光刻工艺 ITO薄膜 选择比
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李佳
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 电荷耦合器件 阵列 电荷转换
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 内线 图像传感器 光电特性 可见光CCD
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
钟玉杰
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 图像传感器 电荷耦合器件 辐照 均匀性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王艳
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 焦平面阵列 辐照 界面态密度 温度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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