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高建威
作品数:
6
被引量:8
H指数:2
供职机构:
重庆光电技术研究所
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相关领域:
电子电信
自动化与计算机技术
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合作作者
杨修伟
重庆光电技术研究所
袁安波
重庆光电技术研究所
向鹏飞
重庆光电技术研究所
邓涛
重庆光电技术研究所
雷仁方
重庆光电技术研究所
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杨修伟
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 选择比 光刻 阵列
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所获资助
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向鹏飞
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 选择比 反应离子刻蚀 光刻
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袁安波
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
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邓涛
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 光刻 光刻工艺 ITO薄膜 选择比
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雷仁方
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
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李佳
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 光刻 电荷耦合器件 阵列 电荷转换
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杨洪
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 内线 图像传感器 CCD图像传感器 光电特性
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钟玉杰
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 图像传感器 电荷耦合器件 辐照 均匀性
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王艳
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 焦平面阵列 辐照 界面态密度 温度
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