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曲鹏程

作品数:6 被引量:7H指数:1
供职机构:重庆光电技术研究所更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术电气工程更多>>

领域

  • 19个电子电信
  • 9个自动化与计算...
  • 4个化学工程
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  • 1个天文地球
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  • 1个一般工业技术

主题

  • 15个电荷耦合
  • 15个电荷耦合器
  • 15个电荷耦合器件
  • 15个刻蚀
  • 15个CCD
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  • 12个图像传感器
  • 12个感器
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  • 10个反应离子刻蚀
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  • 9个多晶硅
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  • 8个近红外
  • 7个氮化硅
  • 7个面阵
  • 6个电路
  • 5个内线

机构

  • 19个重庆光电技术...
  • 1个电子科技大学

资助

  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家杰出青年...
  • 1个国家重大航天...
  • 1个教育部“新世...
  • 1个中国人民解放...

传媒

  • 19个半导体光电
  • 12个电子技术(上...
  • 7个电子科技
  • 3个集成电路应用
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  • 1个材料导报
  • 1个物理化学学报
  • 1个中国科学(E...
  • 1个传感技术学报
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  • 1个航天器工程
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  • 1个科技与创新
  • 1个中国检验检测
  • 1个光电子
  • 1个第八届中国微...

地区

  • 19个重庆市
19 条 记 录,以下是 1-10
廖乃镘
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨修伟
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 选择比 光刻 阵列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
岳志强
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 成像 反应离子刻蚀 光电探测
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向鹏飞
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 选择比 反应离子刻蚀 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁安波
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖晓航
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD MPP 温度 特性分析 成像
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐道润
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:光电隔离 光电耦合器 高线性度 组件 电离
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘昌林
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 电荷耦合器件 光晕 晕结构 CCD图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭培
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 反应离子刻蚀 二次金属 刻蚀 面阵
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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