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汤光洪

作品数：7 被引量：1H指数：1
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 8个电子电信
  • 1个自动化与计算...
  • 1个核科学技术
  • 1个理学

主题

  • 8个沟槽
  • 7个光刻
  • 7个半导体
  • 6个刻蚀
  • 6个功率器件
  • 5个导体
  • 5个光刻胶
  • 4个套刻
  • 4个阻挡层
  • 4个接触孔
  • 4个介质层
  • 3个电阻
  • 3个遮蔽
  • 3个设计方法
  • 3个台阶面
  • 3个匹配方法
  • 3个无缝
  • 3个肖特基
  • 3个肖特基器件
  • 3个膜层

机构

  • 9个杭州士兰集成...

资助

  • 2个国家科技重大...

传媒

  • 5个半导体技术
  • 1个电子测试
  • 1个计量技术
  • 1个中国集成电路
  • 1个2014`全...

地区

  • 9个浙江省
共 9 条 记 录，以下是 1-9
李志栓
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 深槽刻蚀 刻蚀 乙硼烷 掺硼
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨彦涛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 功率半导体器件 半导体 接触孔
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罗永华
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：半导体 光刻胶 沟槽 功率器件 静电
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵学锋
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 半导体 光刻设备 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陶玉美
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：半导体 光刻胶 沟槽 功率器件 功率半导体器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵学峰
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：掺杂 半导体器件 光刻 刻蚀 接触区
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李立文
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：硅片 光刻设备 光刻工艺 光刻版 沟槽
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杨富宝
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：常温 沟槽 回填 刻蚀 肖特基器件
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杨新刚
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：常温 沟槽 回填 刻蚀 肖特基器件
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