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向璐

作品数：15 被引量：0H指数：0
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 15个电子电信
  • 2个文化科学
  • 1个化学工程
  • 1个自动化与计算...
  • 1个理学

主题

  • 15个半导体
  • 12个光刻
  • 11个功率器件
  • 10个沟槽
  • 10个光刻胶
  • 9个导体
  • 9个外延层
  • 9个刻蚀
  • 9个衬底
  • 8个导通
  • 8个电阻
  • 8个接触孔
  • 7个导通电阻
  • 7个介质层
  • 6个叠层
  • 6个掩蔽层
  • 6个氧化层
  • 5个淀积
  • 5个形貌
  • 4个掩膜

机构

  • 15个杭州士兰集成...

资助

  • 2个国家科技重大...

传媒

  • 3个半导体技术
  • 2个电子与封装
  • 1个电子测试
  • 1个中国集成电路
  • 1个2014`全...

地区

  • 15个浙江省
共 15 条 记 录，以下是 1-10
杨彦涛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 功率半导体器件 半导体 接触孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵学锋
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 半导体 光刻设备 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李志栓
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 深槽刻蚀 刻蚀 乙硼烷 掺硼
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王珏
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：功率半导体器件 发射区 集电区 导体 半导体器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李立文
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：硅片 光刻设备 光刻工艺 光刻版 沟槽
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曹俊
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：外延层 耗尽型 沟道 掺杂 掩膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵金波
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：外延层 沟槽 功率器件 掺杂 半导体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈琛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：功率半导体器件 沟槽 屏蔽导体 栅极 槽栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王平
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：外延层 功率半导体器件 沟槽 导电类型 掺杂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
余龙
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：形貌 减薄 裂缝 衬底 半导体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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