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邓涛

作品数：5 被引量：14H指数：1
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

领域

  • 13个电子电信
  • 6个自动化与计算...
  • 2个化学工程
  • 2个电气工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个机械工程
  • 1个航空宇航科学...
  • 1个一般工业技术
  • 1个理学

主题

  • 13个CCD
  • 8个刻蚀
  • 8个光刻
  • 7个多晶
  • 7个多晶硅
  • 6个电荷耦合
  • 6个电荷耦合器
  • 6个电荷耦合器件
  • 6个面阵
  • 5个氮化硅
  • 5个ITO薄膜
  • 4个氮化
  • 4个电路
  • 4个选择比
  • 4个氧化硅
  • 4个阵列
  • 4个退火
  • 4个小尺寸
  • 4个接触孔
  • 3个低损耗

机构

  • 12个重庆光电技术...
  • 1个天津工业大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 2个国防科技技术...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个国家重大航天...

传媒

  • 13个半导体光电
  • 5个电子科技
  • 5个电子技术（上...
  • 2个2004全国...
  • 1个半导体技术
  • 1个红外与毫米波...
  • 1个真空科学与技...
  • 1个航天器工程
  • 1个集成电路应用
  • 1个全国光电技术...

地区

  • 12个重庆市
  • 1个天津市
共 13 条 记 录，以下是 1-10
向鹏飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 选择比 反应离子刻蚀 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨修伟
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 选择比 光刻 阵列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高建威
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 选择比 刻蚀 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴可
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 复合介质 界面态密度 界面态
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊玲
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 硅片 硅晶圆 抛光 湿法腐蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁安波
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向华兵
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD LPCVD 表面光电压 氮化硅 电荷耦合器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵梁博
供职机构：天津工业大学信息与通信工程学院
研究主题：超宽带 插入损耗 高通滤波器 悬置带线 宽带滤波器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李华高
供职机构：中国电子科技集团公司第44研究所
研究主题：红外探测器 铂 CCD 硅 光腔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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