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王波

作品数:10 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 9篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇淀积
  • 3篇载流子
  • 2篇电荷
  • 2篇电荷量
  • 2篇电荷平衡
  • 2篇栅结构
  • 2篇终端
  • 2篇终端结构
  • 2篇高压器件
  • 2篇功率二极管
  • 2篇二极管
  • 2篇半导体
  • 2篇半导体材料
  • 2篇IGBT
  • 2篇IGBT器件
  • 2篇场板
  • 2篇衬底
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇导通

机构

  • 10篇中国科学院微...
  • 1篇江苏物联网研...

作者

  • 10篇朱阳军
  • 10篇王波
  • 6篇谈景飞
  • 5篇褚为利
  • 5篇张文亮
  • 4篇卢烁今
  • 4篇胡爱斌
  • 2篇陈宏
  • 1篇陆江

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 1篇2017
  • 3篇2016
  • 5篇2014
  • 1篇2013
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种高度电荷平衡超结器件的制作方法
本发明涉及一种高度电荷平衡超结器件的制作方法,属于半导体器件的制备方法,制备超结器件,将超结器件的一端与测试设备相连,测试设备检测超结器件中p柱区的电荷量和n柱区中的电荷量,根据超结器件中p柱区的电荷量和n柱区中的电荷量...
张文亮朱阳军王波褚为利谈景飞陈宏
文献传递
一种高压超结IGBT的制作方法
本发明公开了一种高压超结IGBT的制作方法,包括如下步骤:分别在N型,P型衬底上刻蚀出沟槽;分别外延P型,N型单晶硅填充沟槽,并在填充完毕后,做正面的平坦化和减薄;将硅片正面抛光,然后用酸液处理;将处理过的两硅片精确对准...
王波朱阳军卢烁今胡爱斌
文献传递
一种高压超结IGBT的制作方法
本发明公开了一种高压超结IGBT的制作方法,包括如下步骤:分别在N型,P型衬底上刻蚀出沟槽;分别外延P型,N型单晶硅填充沟槽,并在填充完毕后,做正面的平坦化和减薄;将硅片正面抛光,然后用酸液处理;将处理过的两硅片精确对准...
王波朱阳军卢烁今胡爱斌
文献传递
一种高压超结终端结构
本发明提供了一种高压超结终端结构,包括由间隔分布的P+,N‑,N+柱构成的超结区和拥有金属场板和SIPOS场板的终端表面结构,所述超结区和终端表面结构之间有一层P‑层,所述终端表面结构由下到上依次淀积有高阻SIPOS层、...
王波朱阳军胡爱斌卢烁今
文献传递
一种新型FS-CIGBT器件设计及仿真
2013年
由于新型高压场终止型绝缘栅双极晶体管(FS-CIGBT)器件结构与普通IGBT器件结构相比,增加了一层p阱及n阱的结构,因此会产生电势的自钳位效应,保护器件正面结构,防止出现高压失效现象,提高器件的可靠性,同时会降低器件的正向导通压降以及开关损耗。鉴于新结构器件的优势,借助仿真软件Sentaurus TCAD,设计了新型FS-CIGBT器件的各项结构参数以及工艺制造流程,并仿真模拟了其各项电学特性参数。仿真得到FS-CIGBT的击穿电压为8 129 V,在额定电流密度25 A/cm2条件下,导通压降为3.6 V,器件关断损耗为103 mJ/cm2,且各项特性参数均优于普通结构的IGBT器件的特性。
谈景飞王波朱阳军
关键词:仿真电学特性
一种高度电荷平衡超结器件的制作方法
本发明涉及一种高度电荷平衡超结器件的制作方法,属于半导体器件的制备方法,制备超结器件,将超结器件的一端与测试设备相连,测试设备检测超结器件中p柱区的电荷量和n柱区中的电荷量,根据超结器件中p柱区的电荷量和n柱区中的电荷量...
张文亮朱阳军王波褚为利谈景飞陈宏
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一种高压超结终端结构
本发明提供了一种高压超结终端结构,包括由间隔分布的P+,N-,N+柱构成的超结区和拥有金属场板和SIPOS场板的终端表面结构,所述超结区和终端表面结构之间有一层P-层,所述终端表面结构由下到上依次淀积有高阻SIPOS层、...
王波朱阳军胡爱斌卢烁今
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IGBT器件及其制作方法
本发明实施例公开了一种IGBT器件,包括:衬底和位于衬底正面的栅极结构和源极结构,位于所述衬底背面的集电极结构和调整栅结构,其中,所述集电极结构和调整栅结构在所述衬底背面相间分布,且二者之间绝缘。在器件的开关状态下,调整...
谈景飞朱阳军王波张文亮褚为利
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IGBT器件及其制作方法
本发明实施例公开了一种IGBT器件,包括:衬底和位于衬底正面的栅极结构和源极结构,位于所述衬底背面的集电极结构和调整栅结构,其中,所述集电极结构和调整栅结构在所述衬底背面相间分布,且二者之间绝缘。在器件的开关状态下,调整...
谈景飞朱阳军王波张文亮褚为利
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一种功率器件缓冲层或截流子存储层的制备方法
本发明公开了一种功率器件缓冲层或截流子存储层的制备方法,属于半导体设备技术领域,通过中子嬗变掺杂将中子通过掩膜注入到衬底的单侧或者双侧或者通过光致嬗变掺杂将光子通过掩膜注入到衬底的单侧或者双侧,通过精确控制中子或光子的辐...
张文亮朱阳军陆江谈景飞褚为利王波
文献传递
共1页<1>
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