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桂春辉

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：华北光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇国内会议论文

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇液相外延
  • 1篇碲镉汞
  • 1篇碲镉汞材料
  • 1篇位错
  • 1篇位错密度
  • 1篇EPD
  • 1篇衬底

机构

  • 1篇华北光电技术...

作者

  • 1篇刘兴新
  • 1篇周立庆
  • 1篇王迎
  • 1篇董瑞清
  • 1篇桂春辉

传媒

  • 1篇2003年全...

年份

  • 1篇2003
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
用于碲镉汞液相外延的碲锌镉衬底位错密度的研究
平均位错密度(EPD)是评价晶体质量的重要指标之一,衬底的位错密度直接影响到外延膜的位错密度,进而影响到器件的性能.
董瑞清周立庆刘兴新王迎桂春辉
关键词：液相外延衬底碲镉汞材料
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