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董瑞清

作品数：4 被引量：27H指数：2
供职机构：华北光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 2篇液相外延
  • 2篇碲镉汞
  • 2篇衬底
  • 1篇单晶
  • 1篇形貌
  • 1篇摇摆曲线
  • 1篇液相外延技术
  • 1篇英寸
  • 1篇直径
  • 1篇探测器
  • 1篇碲化镉
  • 1篇碲镉汞薄膜
  • 1篇碲镉汞材料
  • 1篇位错
  • 1篇位错密度
  • 1篇温区
  • 1篇晶体
  • 1篇硅基
  • 1篇红外
  • 1篇红外探测

机构

  • 4篇华北光电技术...

作者

  • 4篇周立庆
  • 4篇董瑞清
  • 3篇刘兴新
  • 2篇王迎
  • 2篇巩锋
  • 1篇王金义
  • 1篇常米
  • 1篇胡增辉
  • 1篇桂春辉
  • 1篇刘铭
  • 1篇折伟林

传媒

  • 2篇激光与红外
  • 1篇2002年全...
  • 1篇2003年全...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2004
  • 1篇2003
  • 1篇2002
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
单温区碲镉汞液相外延技术的研究
采用单温区碲化汞补偿相外延法,通过液相延舟的设计、温度参数和氢气流量的选择,在碲锌镉衬义上成功外延出碲匐汞液相外延膜.液相外延膜的组份均匀性、表面形貌、X光形貌和电性能参数均较好.
周立庆刘兴新王金义董瑞清王迎胡增辉
关键词：碲镉汞薄膜液相外延红外探测器
文献传递
优质碲锌镉单晶的生长及性能测试被引量：7
2004年
采用垂直布里奇曼法(VB)生长出直径为55mm、低位错密度、结构完好的碲锌隔单晶(Cd0.955Zn0.045Te)。通过位错腐蚀坑密度、傅立叶红外透射光谱、X Ray形貌、X射线双晶摇摆曲线对碲锌镉晶体的性能进行了研究。
巩锋周立庆刘兴新董瑞清
关键词：直径形貌单晶摇摆曲线晶体
3英寸CdTe/Si复合衬底外延技术研究被引量：20
2011年
报道了采用分子束外延法,在3 in硅衬底上通过As钝化、ZnTe缓冲层生长、CdTe生长、周期性退火等工艺进行CdTe/Si复合衬底制备技术研究情况,采用光学显微镜、X射线高分辨衍射仪、原子力显微镜、红外傅里叶光谱仪和湿化学腐蚀等手段对碲化镉薄膜进行了表征,测试分析结果表明碲化镉薄膜的晶向得到了较好的控制,孪晶得到了抑制,且具有较好晶体结构质量和均匀性。
周立庆刘铭巩锋董瑞清折伟林常米
关键词：碲化镉硅基分子束外延
用于碲镉汞液相外延的碲锌镉衬底位错密度的研究
平均位错密度(EPD)是评价晶体质量的重要指标之一,衬底的位错密度直接影响到外延膜的位错密度,进而影响到器件的性能.
董瑞清周立庆刘兴新王迎桂春辉
关键词：液相外延衬底碲镉汞材料
文献传递
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