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周伟坚

作品数:9 被引量:2H指数:1
供职机构:杭州电子科技大学电子信息学院教育部射频电路与系统重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技重大专项国防科技重点实验室基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 5篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 6篇跨导
  • 5篇势垒
  • 5篇线性度
  • 4篇二维电子
  • 4篇二维电子气
  • 3篇异质结
  • 3篇迁移率
  • 3篇晶体管
  • 2篇载流子
  • 2篇载流子迁移率
  • 2篇栅极
  • 2篇栅极电压
  • 2篇缓冲层
  • 2篇隔离层
  • 2篇沟道
  • 2篇复合沟道
  • 1篇电路
  • 1篇电路设计
  • 1篇电子迁移率
  • 1篇新型结构

机构

  • 9篇杭州电子科技...

作者

  • 9篇周伟坚
  • 8篇程知群
  • 7篇胡莎
  • 6篇周肖鹏
  • 3篇张胜
  • 1篇刘剑
  • 1篇刘军

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇电子器件
  • 1篇杭州电子科技...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 6篇2010
  • 1篇2009
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
提高氮化镓高电子迁移率晶体管特征频率和线性度的方法
本发明涉及提高氮化镓高电子迁移率晶体管特征频率和线性度的方法。本发明方法采用了非掺杂势垒层Al<Sub>x</Sub>Ga<Sub>1-x</Sub>N,用AlN作隔离层,并在AlN缓冲层GaN之间插入一层低Al组分y的...
程知群周肖鹏周伟坚胡莎
文献传递
提高氮化镓高电子迁移率晶体管特征频率和线性度的方法
本发明涉及提高氮化镓高电子迁移率晶体管特征频率和线性度的方法。本发明方法采用了非掺杂势垒层Al<Sub>x</Sub>Ga<Sub>1-x</Sub>N,用AlN作隔离层,并在AlN缓冲层GaN之间插入一层低Al组分y的...
程知群周肖鹏周伟坚胡莎
文献传递
一种氮化镓高电子迁移率晶体管
本实用新型涉及一种氮化镓高电子迁移率晶体管。本实用新型包括基底,基底上依次外延生长有缓冲层、插入层、隔离层、势垒层和帽层,晶体管的栅极、源极和漏极位于帽层上,缓冲层为厚度是2.5μm的GaN,插入层为厚度是4nm的Al<...
程知群周肖鹏张胜周伟坚胡莎
文献传递
提高氮化镓高电子迁移率晶体管线性度的方法
本发明涉及提高氮化镓高电子迁移率晶体管线性度的方法。本发明方法在常规结构AlxGa1-xN/GaN的隔离层AlxGa1-xN与缓冲层GaN之间插入Al<Sub>y</Sub>Ga<Sub>1-y</Sub>N插入层,形成...
程知群周肖鹏张胜周伟坚胡莎
文献传递
新型器件SiGe HBT和GaN HEMT Scalable模型开发
近年来,全球通信产业的迅猛发展,微波单片集成电路的应用领域不断扩大,对器件要求也越来越高。由于具有电流增益大、截止频率高、驱动能力强、相位噪声低、功率密度大等一系列优点,异质结双极晶体管(Heterojunction B...
周伟坚
关键词:异质结双极晶体管电路设计
文献传递
一种高频高线性氮化镓高电子迁移率晶体管
本实用新型涉及一种高频高线性氮化镓高电子迁移率晶体管。传统技术无法满足高功率器件的要求。本实用新型器件包括基底,基底上依次外延生长有缓冲层、插入层、隔离层、势垒层,晶体管的栅极、源极和漏极位于势垒层上。其中基底为蓝宝石、...
程知群胡莎周肖鹏周伟坚
文献传递
高线性度Al_xGa_(1-x)N/Al_yGa_(1-y)N/GaN高电子迁移率晶体管优化设计
2010年
对新型复合沟道AlxGa1-xN/AlyGa1-yN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)进行了优化设计.从半导体能带理论与量子阱理论出发,自洽求解了器件层结构参数对器件导带能级以及二维电子气(2DEG)中载流子浓度和横向电场的影响.用TCAD软件仿真得到了器件的层结构参数对器件性能的影响.结合理论分析和仿真结果确定了器件的最佳外延层结构Al0.31Ga0.69N/Al0.04Ga0.96N/GaNHEMT.对栅长1μm,栅宽100μm的器件仿真表明,器件的最大跨导为300mS/mm,且在栅极电压-2—1V的宽范围内跨导变化很小,表明器件具有较好的线性度;器件的最大电流密度为1300mA/mm,特征频率为11.5GHz,最大振荡频率为32.5GHz.
程知群周肖鹏胡莎周伟坚张胜
关键词:ALGAN/GAN高电子迁移率晶体管复合沟道
新型结构的HEMT优化设计被引量:1
2012年
该文通过对HEMT物理模型的分析及对之前所设计的HEMT结构的总结,利用TCAD进行仿真,分析了器件中2DEG电子浓度和电子迁移率以及栅漏电流随In含量的变化规律。提出了一种新型结构Al0.3Ga0.7N/AlN/GaN/In0.1Ga0.9N/GaN HEMT,并对栅长0.25μm和栅宽100μm的器件进行了优化设计,器件的栅压为1V时,阈值电压-5.3V,最大漏电流为2 220mA/mm,获得最大跨导为440mS/mm,且在-3.5~-0.5V范围内跨导变化量很小,说明优化后的器件具有良好的线性度。
刘剑程知群胡莎周伟坚
关键词:二维电子气跨导复合沟道
基于HICUM模型的高速锗硅异质结双极性晶体管可缩放模型研究(英文)被引量:1
2010年
针对高速锗硅异质结双极性晶体管,在基于HICUM模型的基础上,建立了HICUM可缩放模型,并且在ADS和Hspice中都得到了很好的应用。可缩放模型是基于不同的尺寸的器件而建立的,所有可缩放模型中的参数都是直接从不同尺寸器件的测量数据中取得的,并且通过比较直流、电压电容关系、截止频率和S参数的测量和仿真数据,可以看出拟合结果比较好,HICUM可缩放模型得到了很好的验证。
周伟坚程知群刘军
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