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王小强

作品数：3 被引量：11H指数：2
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 10个电子电信
  • 2个自动化与计算...
  • 1个经济管理
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  • 1个医药卫生
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主题

  • 9个CCD
  • 6个电荷耦合
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  • 6个电荷耦合器件
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机构

  • 10个重庆光电技术...
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传媒

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地区

  • 10个重庆市
共 10 条 记 录，以下是 1-10
李睿智
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 光电探测器 电荷耦合器件 Γ辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
钟玉杰
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 图像传感器 电荷耦合器件 辐照 均匀性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许青
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MOS电容器 SI 放大器 仿真
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汪朝敏
供职机构：中国电子科技集团公司第44研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 像元 内线 信号
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
江海波
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：湿法腐蚀 CCD 硅片 硅晶圆 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
程顺昌
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 密封 光晕 势垒
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊玲
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 硅片 硅晶圆 抛光 湿法腐蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周玉红
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD Γ辐照 辐照 可见光CCD 界面态
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邓刚
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：硅片 硅晶圆 抛光 湿法腐蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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