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廖晓航

作品数:4 被引量:4H指数:1
供职机构:重庆光电技术研究所更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

领域

  • 13个电子电信
  • 6个自动化与计算...
  • 3个电气工程
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主题

  • 12个CCD
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  • 8个电荷耦合器
  • 8个电荷耦合器件
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  • 7个感器
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  • 6个反应离子刻蚀
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机构

  • 13个重庆光电技术...
  • 1个电子科技大学

资助

  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家杰出青年...
  • 1个教育部“新世...
  • 1个中国人民解放...

传媒

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地区

  • 13个重庆市
13 条 记 录,以下是 1-10
岳志强
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 成像 反应离子刻蚀 光电探测
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任利平
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 放大器 热载流子效应 BCCD PIN光电二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汪凌
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 放大器 复合介质 光刻胶 减薄
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳益
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:穿刺 波导型 BCCD 锗 暗电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘昌林
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 电荷耦合器件 CCD图像传感器 多光谱 弥散
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐利
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 放大器 光刻胶 离子注入 斜坡
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩恒利
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 放大器 成像 减薄 图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖乃镘
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴琼瑶
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD ALGAN PIN 刻蚀 紫外探测器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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