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曾武贤

作品数：6 被引量：4H指数：1
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 14个电子电信
  • 7个自动化与计算...
  • 3个化学工程
  • 3个理学
  • 2个电气工程
  • 2个一般工业技术
  • 1个金属学及工艺
  • 1个航空宇航科学...

主题

  • 13个CCD
  • 9个电荷耦合
  • 9个电荷耦合器
  • 9个电荷耦合器件
  • 9个刻蚀
  • 8个图像
  • 8个图像传感器
  • 7个多晶
  • 7个多晶硅
  • 7个探测器
  • 6个面阵
  • 5个氮化硅
  • 5个微结构
  • 5个均匀性
  • 5个ITO薄膜
  • 4个低压化学气相...
  • 4个淀积
  • 4个栅介质
  • 4个沾污
  • 4个退火

机构

  • 13个重庆光电技术...
  • 1个电子科技大学
  • 1个天津工业大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 1个国防科技技术...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个国家杰出青年...
  • 1个国家重大航天...
  • 1个教育部“新世...
  • 1个中国人民解放...

传媒

  • 14个半导体光电
  • 7个电子技术（上...
  • 4个电子科技
  • 2个集成电路应用
  • 2个2004全国...
  • 1个光电子．激光
  • 1个半导体情报
  • 1个半导体技术
  • 1个Journa...
  • 1个物理学报
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  • 1个红外技术
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  • 1个物理化学学报
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  • 1个真空科学与技...
  • 1个传感技术学报
  • 1个航天器工程
  • 1个中文科技期刊...
  • 1个第八届中国微...

地区

  • 13个重庆市
  • 1个天津市
共 14 条 记 录，以下是 1-10
钟玉杰
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 图像传感器 电荷耦合器件 辐照 均匀性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁安波
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张振宇
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 铝 光刻 均匀性 线阵CCD
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊玲
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 硅片 硅晶圆 抛光 湿法腐蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许宏
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 本征吸杂 暗电流密度 暗电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李睿智
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 光电探测器 电荷耦合器件 Γ辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邓涛
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 光刻工艺 ITO薄膜 选择比
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖乃镘
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向华兵
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD LPCVD 表面光电压 氮化硅 电荷耦合器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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