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高岗

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 5个电子电信
  • 4个理学
  • 1个金属学及工艺
  • 1个电气工程
  • 1个自动化与计算...
  • 1个一般工业技术

主题

  • 5个单晶
  • 5个电阻率
  • 5个均匀性
  • 5个硅
  • 5个FZ
  • 4个单晶生长
  • 4个区熔
  • 4个区熔硅单晶
  • 4个硅单晶
  • 4个硅单晶生长
  • 3个等径
  • 3个少子寿命
  • 3个漩涡
  • 3个位错
  • 3个线圈
  • 3个联合法
  • 3个SI单晶
  • 2个淀积
  • 2个锗单晶
  • 2个坡面

机构

  • 5个中国电子科技...
  • 1个河北工业大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 1个国家自然科学...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 5个半导体技术
  • 5个电子工业专用...
  • 3个第十五届全国...
  • 2个天津科技
  • 1个Journa...
  • 1个人工晶体学报
  • 1个传感技术学报
  • 1个微纳电子技术
  • 1个中国电子科学...
  • 1个第九届中国太...
  • 1个第十四届全国...
  • 1个第十五届全国...

地区

  • 4个天津市
  • 1个北京市
共 5 条 记 录，以下是 1-5
刘燕
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅 电阻率 区熔 少子寿命 FZ
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
索开南
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 少子寿命 硅 区熔硅单晶 SI单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘洪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：FZ 区熔硅单晶 硅单晶 区熔 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
董军恒
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：电阻率 均匀性 区熔 少子寿命 FZ
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘洪飞
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：电阻率 FZ 硅 均匀性 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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