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陈元金

作品数：7 被引量：0H指数：0
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合作作者

领域

  • 8个电子电信
  • 3个理学
  • 2个自动化与计算...
  • 1个机械工程
  • 1个电气工程
  • 1个轻工技术与工...

主题

  • 7个淀积
  • 5个氮化硅
  • 5个氮化硅薄膜
  • 5个电路
  • 5个电容
  • 5个氧化层
  • 5个氧化硅薄膜
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  • 4个导体
  • 4个掩膜
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  • 3个电流
  • 3个电流密度
  • 3个电容值
  • 3个电阻
  • 3个叠层
  • 3个短路
  • 3个多晶
  • 3个形貌
  • 3个掩膜版

机构

  • 8个杭州士兰集成...

资助

  • 1个国家科技重大...

传媒

  • 3个2014`全...
  • 1个半导体技术
  • 1个中国集成电路
  • 1个科学技术创新

地区

  • 8个浙江省
共 8 条 记 录，以下是 1-8
杨彦涛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 功率半导体器件 半导体 接触孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李小锋
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：BIPOLAR 发射区 氮化硅薄膜 双极 场区
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈文伟
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：功率器件 接触孔 淀积 套刻 槽栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李庆华
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 接触孔 线宽 淀积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
夏志平
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：功率器件 沟槽 半导体器件 功率半导体器件 隔离层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘琛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：MEMS器件 外延层 发射区 介质层 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕艳欣
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：氧化硅薄膜 BIPOLAR 氮化硅薄膜 硅基底 磷烷
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张佼佼
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：发射区 外延层 感应电荷 互连线 双极
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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