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赵学峰

作品数：9 被引量：0H指数：0
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合作作者

领域

  • 11个电子电信
  • 3个理学
  • 2个自动化与计算...
  • 1个机械工程
  • 1个电气工程

主题

  • 11个半导体
  • 10个光刻
  • 9个介质层
  • 9个刻蚀
  • 8个导体
  • 8个外延层
  • 7个光刻工艺
  • 7个光刻胶
  • 6个淀积
  • 6个膜层
  • 5个电阻
  • 5个研磨工艺
  • 5个掩膜
  • 5个磨工
  • 5个划伤
  • 4个调结构
  • 4个形貌
  • 4个氧化层
  • 3个导通
  • 3个导通电阻

机构

  • 11个杭州士兰集成...

资助

  • 2个国家科技重大...
  • 1个北京市自然科...
  • 1个国家自然科学...

传媒

  • 5个半导体技术
  • 3个2014`全...
  • 2个中国集成电路
  • 1个电子测试
  • 1个微纳电子技术

地区

  • 11个浙江省
共 11 条 记 录，以下是 1-10
杨彦涛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 功率半导体器件 半导体 接触孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
肖金平
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：势垒层 掺杂 导通电阻 发射区 二氧化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李立文
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：硅片 光刻设备 光刻工艺 光刻版 沟槽
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李志栓
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 深槽刻蚀 刻蚀 乙硼烷 掺硼
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
崔小锋
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：光刻工艺 掺杂 测量方法 研磨工艺 半导体器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汤光洪
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 刻蚀 半导体 光刻胶 功率器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁家贵
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：光刻 掺杂 研磨工艺 半导体器件 刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
江宇雷
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：形貌 半导体器件 刻蚀 测试仪 氧化层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵金波
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：外延层 沟槽 功率器件 掺杂 半导体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘琛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：MEMS器件 外延层 发射区 介质层 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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