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卢维尔

作品数:113 被引量:28H指数:3
供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
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领域

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主题

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机构

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资助

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传媒

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  • 4个功能材料

地区

  • 35个北京市
35 条 记 录,以下是 1-10
夏洋
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:原子层沉积 等离子体 氧化锌薄膜 SUB 共掺
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李楠
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:原子层沉积 启辉 等离子体 电极 半导体制造技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李超波
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:原子层沉积 氧化锌薄膜 离子注入 等离子体 共掺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵丽莉
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:原子层沉积 离子注入 菲涅耳波带片 注入机 特性参数
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
解婧
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氧化锌薄膜 共掺 受主 原子层沉积 掺杂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
屈芙蓉
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:原子层沉积 前驱体 PIII 薄膜封装 腔体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
董亚斌
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氧化锌薄膜 共掺 受主 原子层沉积 锌源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张阳
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氧化锌薄膜 共掺 氧化锌 锌源 受主
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘涛
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:原子层沉积 白光干涉 激光干涉 蓝宝石 近场光学
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冷兴龙
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:原子层沉积 薄膜封装 前驱体 白光干涉 激光干涉
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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