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王盛凯
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供职机构:
中国科学院微电子研究所
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合作作者
刘洪刚
桂林电子科技大学
孙兵
中国科学院微电子研究所
常虎东
桂林电子科技大学
赵威
中国科学院微电子研究所
刘新宇
中国科学院微电子研究所
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刘洪刚
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:沟道 迁移率 衬底 半导体器件 硅基
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孙兵
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:迁移率 沟道 锗 硅基 衬底
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常虎东
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:衬底 沟道 界面态密度 半导体器件 迁移率
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赵威
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:锗 氧化锗 纳米线结构 氧化物 阻挡层
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刘新宇
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 刻蚀 欧姆接触 ALGAN/GAN 衬底
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供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:碳化硅 SIC 微波等离子体 衬底 肖特基二极管
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汤益丹
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:碳化硅 衬底 微波等离子体 含氧气体 肖特基接触
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杨成樾
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:碳化硅 衬底 微波等离子体 肖特基二极管 肖特基接触
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薛百清
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:衬底 锗 III-V族 二维光子晶体 硅基
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韩乐
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:二维光子晶体 硅基 光子禁带 衬底 超浅结
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