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陈捷

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 13个电子电信
  • 1个化学工程
  • 1个自动化与计算...

主题

  • 11个退火
  • 11个CCD
  • 9个电荷耦合
  • 9个电荷耦合器
  • 9个电荷耦合器件
  • 8个低温退火
  • 8个栅介质
  • 8个吸杂
  • 8个本征
  • 8个本征吸杂
  • 4个低压化学气相...
  • 4个淀积
  • 4个气相淀积
  • 4个量子效率
  • 4个刻蚀
  • 4个化学气相
  • 4个化学气相淀积
  • 4个光刻
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  • 2个电路制造

机构

  • 13个重庆光电技术...

资助

  • 1个国防科技技术...

传媒

  • 13个半导体光电
  • 2个电子科技
  • 2个2004全国...
  • 1个半导体情报
  • 1个电子技术（上...
  • 1个集成电路应用

地区

  • 13个重庆市
共 13 条 记 录，以下是 1-10
韩恒利
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 放大器 成像 减薄 图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许青
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MOS电容器 SI 放大器 仿真
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈忠和
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：MOS电容器 SI 退火
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许宏
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 本征吸杂 暗电流密度 暗电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊玲
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 硅片 硅晶圆 抛光 湿法腐蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汪琳
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 本征吸杂 电荷耦合器件 低温退火 栅介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张故万
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 完整性 SI 本征吸杂 复合介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姜华男
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 穿刺 铝 金属化 接触孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郑杏平
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 本征吸杂 电荷耦合器件 低温退火 栅介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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