张洁
- 作品数：7 被引量：4H指数：1
- 供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 刻蚀液的调整对Array Mura影响的研究被引量：1
- 2018年
- 生产中经常出现常温污渍(Array Mura)不良。针对TFT面板布线细线化及低电阻电极的要求,纯铝工艺迫切需要新型湿法刻蚀液的对应。目前,本文通过对比3种产线中测试的刻蚀液,得出Array Mura的产生主要与纯铝工艺的顶层金属钼的刻蚀后缩进有关,其中测试的刻蚀液C可以有效控制金属钼的缩进至0.1μm以内。控制顶层金属钼缩进的主要原因与刻蚀液C的硝酸浓度和添加剂含量有关,通过控制药液进而控制了刻蚀过程内的电化学反应,最终使得Array Mura得到了有效的改善,后续无相关不良发生。采用刻蚀液C刻蚀后线宽、坡度角等相关刻蚀参数均满足要求,目前已经导入量产使用。
- 冀新友张家祥王亮张洁卢凯黄东升陈思王威
- 关键词：刻蚀液
- TFT-LCD器件Al电极TFT特性研究被引量：3
- 2017年
- 本文对Mo/Al/Mo作为TFT-LCD器件源/漏极的TFT特性进行了研究。与单层Mo相比,存在沟道界面粗糙,I_(off)偏大问题,通过优化膜层结构,改善界面状态,得到了平整的沟道界面和良好的TFT特性。增加Bottom Mo的厚度,可以有效减少Al的渗透,防止Al-Si化合物的形成,得到界面平整的沟道;N^+刻蚀后SF6处理对特性影响不大,增加刻蚀时间可以使I_(on)和I_(off)同时降低;PVX沉积前处理气体N_2+NH_3与H_2区别不大,都可以减少沟道缺陷,而增加H_2处理时间会增强等离子的轰击作用,减少了沟道表面Al-Si化合物,但处理时间过长可能会使沟道缺陷增加;采用bottom Mo加厚,N^+刻蚀以及PVX沉积前处理等最优条件,可以得到沟道界面良好,TFT特性与单层Mo相当的TFT器件。
- 张家祥王彦强卢凯张文余王凤涛冀新友王亮张洁王琪刘琨李良杰李京鹏
- 关键词：漏电流AL电极
- 一种探测基板、其驱动方法及探测装置
- 本发明提供了一种探测基板、其驱动方法及探测装置，其中，该探测基板包括：衬底基板和位于衬底基板上呈阵列排布的多个探测单元；各个探测单元中信号读出晶体管的第一极与信号传输端耦接，第二极与放大晶体管的第一极耦接，且栅极与信号读...
- 张洁程锦蔡寿金
- 测试用基板、半导体器件及测试系统
- 本申请提供一种测试用基板、半导体器件及测试系统，测试用基板具有感应区和围绕感应区的周边区；测试用基板包括衬底；感应区包括设于衬底一侧的薄膜晶体管功能层；周边区包括：设置在衬底一侧且相互隔离的至少一个第一引出区、第二引出区...
- 张洁周琳孔德玺李成王迎姿
- 图像传感器及其控制方法、显示面板
- 本发明公开一种图像传感器及其控制方法、显示面板，该图像传感器包括复位模块、放大模块、读取模块和增益可调的光电转换模块；复位模块的控制端连接复位信号端，复位模块的第一端连接第一电源模块，复位模块的第二端连接放大模块的控制端...
- 张洁蔡寿金李成
- 文献传递
- 图像传感器及其控制方法、显示面板
- 本发明公开一种图像传感器及其控制方法、显示面板，该图像传感器包括复位模块、放大模块、读取模块和增益可调的光电转换模块；复位模块的控制端连接复位信号端，复位模块的第一端连接第一电源模块，复位模块的第二端连接放大模块的控制端...
- 张洁蔡寿金李成
- 测试驱动模组以及测试系统
- 本申请公开了一种测试驱动模组及测试系统，属于光电探测领域。所述测试驱动模组用于驱动待测结构进行光敏材料的测试，所述待测结构包括至少一个信号端，所述测试驱动模组包括：至少一个连接结构，用于与所述待测结构的至少一个信号端一一...
- 张洁周琳孔德玺程锦黄根陈紫霄王迎姿李成钟文杰李杨
