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程芳

作品数:5 被引量:17H指数:2
供职机构:天津师范大学物理与材料科学学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺理学电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇电弧离子镀
  • 3篇离子镀
  • 2篇多层膜
  • 2篇力学性能
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米多层膜
  • 2篇晶体
  • 2篇晶体结构
  • 2篇溅射
  • 2篇TIN/TI
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇力学性
  • 1篇调制周期
  • 1篇氧化钛薄膜
  • 1篇占空比
  • 1篇透射
  • 1篇透射率
  • 1篇显微硬度
  • 1篇消光

机构

  • 5篇天津师范大学

作者

  • 5篇黄美东
  • 5篇程芳
  • 2篇刘野
  • 2篇薛利
  • 2篇范喜迎
  • 1篇王丽格
  • 1篇许世鹏
  • 1篇杜姗
  • 1篇王萌萌
  • 1篇刘春伟
  • 1篇王宇
  • 1篇张臣
  • 1篇陈泽昊
  • 1篇唐晓红

传媒

  • 2篇天津师范大学...
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇真空

年份

  • 1篇2016
  • 2篇2014
  • 2篇2013
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
电弧离子镀TiN/Ti纳米多层膜的力学性能被引量:3
2016年
采用多弧离子镀技术,在不同沉积参数下合成具有纳米调制周期的TiN/Ti多层膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、XP-2台阶仪、XP型纳米压痕仪、X射线能谱仪(EDS)研究了调制周期对TiN/Ti纳米多层膜微观结构、表面形貌以及力学性能的影响。结果表明,膜层由TiN和Ti交替组成,不存在其它杂相,且TiN薄膜以面心立方结构沿(111)密排面择优生长;TiN/Ti多层膜外观致密、平滑、颜色均匀金黄,随着调制周期的减小,薄膜表面大颗粒数量和尺寸均减小,且氮含量逐渐升高,膜层硬度呈现出增大的趋势。
张臣黄美东陈泽昊程芳王宇
关键词:电弧离子镀调制周期
磁控溅射氧化钛薄膜的光学性能被引量:2
2013年
常温下,通过反应磁控溅射法在K9双面抛光玻璃基底上制备氧化钛薄膜.采用X线衍射(X-rayDiffraction,XRD)、光栅光谱仪和椭偏仪对氧化钛薄膜样品的结构和光学性能进行测试,并拟合分析得到薄膜的折射率和厚度等光学参数.结果表明:氧化钛纳米薄膜呈非晶态,其折射率和消光系数随波长的变化而变化,薄膜的透射率测量结果和理论计算结果在350~800 nm光波范围内吻合良好.由于氧化钛薄膜的折射率高且在可见光波段吸收小、呈透明状,是用来构成一维光子晶体的理想组分,有关其光学性能的基础研究对光子晶体的结构设计及其器件的开发应用具有积极的意义.
程芳黄美东王丽格杜姗唐晓红刘春伟
关键词:氧化钛薄膜磁控溅射透射率光学性能消光系数晶体结构
脉冲偏压占空比对复合离子镀TiCN涂层结构和性能的影响被引量:10
2014年
采用多弧离子镀和磁控溅射复合离子镀技术在高速钢基底上制备TiCN涂层,通过改变脉冲偏压占空比的大小获得了不同的涂层试样,利用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏硬度计等对涂层进行表征,研究占空比对TiCN涂层组织结构和力学性能的影响。结果表明:随着脉冲偏压占空比的增加,TiCN涂层的表面大颗粒逐渐减少,表面形貌得到改善。涂层结构中,(111)晶面的择优取向趋势明显,沉积速率和显微硬度均出现先增大后减小的趋势,且在占空比为40%时均达最大值。TiCN涂层的最高硬度为3 800HV0.025,约为基底硬度的4倍。
程芳黄美东王萌萌范喜迎李云珂刘野
关键词:显微硬度
电弧离子镀TiN/Ti纳米多层膜的力学性能
近年来,物理气相沉积法制备的超硬薄膜具有高硬度、良好的摩擦性能且化学性能稳定等优良性能,被广泛应用于刀具、模具、各种耐磨零件以及微电子等领域之中。随着加工要求的不断提高,研究综合性能更优良的薄膜显得越来越重要。本工作利用...
程芳黄美东薛利范喜迎李云珂陈广宵
文献传递
氮气流量对复合离子镀TiAlN薄膜性能的影响被引量:2
2014年
利用电弧离子镀和磁控溅射相结合的复合镀技术,在300 V偏压、不同氮气流量下制备了一系列TiAlN薄膜.利用XP-2台阶仪、XRD、SEM和纳米力学测试系统分别对薄膜的沉积速率、晶体结构、表面形貌、硬度和弹性模量等进行测试和分析.实验结果表明:随着氮气流量的增大,薄膜的表面质量逐渐提高,薄膜的硬度和弹性模量均随氮气流量的增大呈现出先增加后减小的变化趋势.
薛利黄美东程芳刘野许世鹏李云珂
关键词:电弧离子镀磁控溅射TIALN薄膜晶体结构表面形貌
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