薛利
- 作品数：9 被引量：23H指数：3
- 供职机构：天津师范大学物理与材料科学学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学电子电信一般工业技术更多>>
- 脉冲偏压对多弧离子沉积TiAlN薄膜微观结构的影响研究
- 采用多弧离子镀的方法在高速钢基底上沉积氮化钛铝硬质薄膜。本地真空为3*10Pa,实验采用高纯钛靶和铝靶镀膜,并且氩气作为辅助气体0.1Pa,氮气为反应气体0.4Pa,镀膜气压一共为0.5Pa。实验前进行辉光清洗15分钟,...
- 薛利黄美东潘玉鹏范喜迎李云珂
- 文献传递
- 脉冲偏压占空比对复合离子镀(Cr,Al)N薄膜结构和力学性能的影响被引量：1
- 2015年
- 采用将电弧离子镀与磁控溅射离子镀相结合而得的复合离子镀的方法,分别用高纯Cr作为电弧靶、用高纯Al作为溅射靶,通入氮气和氩气,在高速钢和硅片上沉积(Cr,Al)N薄膜。通过台阶仪、扫描电镜、X射线衍射仪、维氏硬度计等分析和测量手段,研究了不同脉冲偏压占空比条件下(Cr,Al)N薄膜结构和力学性能的变化规律。研究表明,占空比对薄膜的结构和力学性能均有影响,当占空比为40%时,薄膜的沉积速率最大,为12.8 nm/min,用25 g载荷保荷10 s测试的维氏硬度1725 Hv也为实验获得的最大值。
- 高倩黄美东王小龙薛利
- 关键词：占空比
- 负偏压对电弧离子镀复合TiAlN薄膜的影响被引量：8
- 2012年
- 采用电弧离子镀技术,以W18Cr4V高速钢为基体,调整基体负偏压,制得多个复合TiAlN薄膜试样,研究了基体负偏压对薄膜微观组织形貌、物相组成、晶格位向、硬度、厚度和沉积速率的影响。结果表明,过高或过低的负偏压会使得膜层表面不平整,显微硬度下降。当负偏压为200 V时,膜层的沉积速率最大;负偏压为150 V时,有利于薄膜(111)晶面的择优取向生长,且TiAlN膜的硬度最高。
- 黄美东许世鹏刘野薛利潘玉鹏范喜迎
- 关键词：电弧离子镀TIALN薄膜
- 负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响被引量：1
- 2013年
- 采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响。实验结果表明,随着负偏压的增加,沉积速率不断增加,但在负偏压达到一定值后,沉积速率又随偏压增大而减小。
- 潘玉鹏黄美东薛利刘野许世鹏
- 关键词：多弧离子镀TIN薄膜偏压沉积速率
- 氮气流量对磁控溅射TiN膜层色泽的影响被引量：5
- 2013年
- 在国产SA-6T型离子镀膜机上利用反应直流溅射方法,在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面制备TiN膜层,考察氮气流量对薄膜色泽的影响。用扫描电镜对薄膜表面形貌进行观测,发现沉积的TiN膜层质量良好,无孔洞,表面平整、致密。采用色度计定量测试了TiN薄膜的色泽,并分析了氮气流量对色泽的影响。结果表明,氮气流量即沉积气压对装饰镀TiN薄膜的颜色有重要影响,通过调节氮气流量,可有效改变TiN膜层的色泽。TiN薄膜的颜色随氮气流量增大而加深。
- 吕长东黄美东刘野许世鹏薛利
- 关键词：TIN薄膜磁控溅射色泽氮气
- 偏压对电弧镀TiN薄膜结构和机械性能的影响被引量：3
- 2012年
- 采用SA-6T电弧离子镀设备在抛光后的W18Cr4V高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,考察偏压对薄膜结构和机械性能的影响.通过扫描电镜观察了TiN薄膜的表面形貌,采用X射线衍射仪对结构进行物相分析,利用XP-2台阶仪测试了薄膜的厚度,并用纳米压痕仪和多功能表面测试仪分别对薄膜的硬度和膜基结合力进行测量.结果表明:随着负偏压的增加,具有面心立方结构的TiN薄膜沿(111)密排面的择优生长明显加强;薄膜厚度(沉积速率)呈现先增大后减小的趋势,在负偏压为100V时达到最大;薄膜综合力学性能在负偏压为200V时达到最佳.
- 佟莉娜黄美东孟凡宇刘野许世鹏薛利
- 关键词：电弧离子镀TIN薄膜偏压机械性能
- 电弧离子镀TiN/Ti纳米多层膜的力学性能
- 近年来,物理气相沉积法制备的超硬薄膜具有高硬度、良好的摩擦性能且化学性能稳定等优良性能,被广泛应用于刀具、模具、各种耐磨零件以及微电子等领域之中。随着加工要求的不断提高,研究综合性能更优良的薄膜显得越来越重要。本工作利用...
- 程芳黄美东薛利范喜迎李云珂陈广宵
- 文献传递
- 氮气流量对电弧离子镀CrN薄膜组织结构和性能的影响被引量：3
- 2013年
- 利用电弧离子镀技术在高速钢基体上于不同氮气流量条件下制备CrN薄膜样品,通过纳米压痕仪、XP-2台阶仪、SEM和XRD测试分析了薄膜的硬度、弹性模量、厚度、表面形貌和物相结构。实验结果表明,氮气流量对CrN薄膜的组织结构和力学性能都具有较为明显的影响。
- 范喜迎黄美东李洪玉刘野许世鹏薛利潘玉鹏
- 关键词：电弧离子镀CRN薄膜
- 氮气流量对复合离子镀TiAlN薄膜性能的影响被引量：2
- 2014年
- 利用电弧离子镀和磁控溅射相结合的复合镀技术,在300 V偏压、不同氮气流量下制备了一系列TiAlN薄膜.利用XP-2台阶仪、XRD、SEM和纳米力学测试系统分别对薄膜的沉积速率、晶体结构、表面形貌、硬度和弹性模量等进行测试和分析.实验结果表明:随着氮气流量的增大,薄膜的表面质量逐渐提高,薄膜的硬度和弹性模量均随氮气流量的增大呈现出先增加后减小的变化趋势.
- 薛利黄美东程芳刘野许世鹏李云珂
- 关键词：电弧离子镀磁控溅射TIALN薄膜晶体结构表面形貌
