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范喜迎

作品数:6 被引量:22H指数:3
供职机构:天津师范大学物理与材料科学学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 4篇电弧离子镀
  • 4篇离子镀
  • 3篇脉冲偏压
  • 2篇力学性能
  • 2篇力学性
  • 1篇电弧
  • 1篇多层膜
  • 1篇占空比
  • 1篇显微硬度
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米多层膜
  • 1篇TIALN
  • 1篇TIALN薄...
  • 1篇TICN
  • 1篇TIN/TI
  • 1篇CRN薄膜

机构

  • 6篇天津师范大学

作者

  • 6篇黄美东
  • 6篇范喜迎
  • 4篇薛利
  • 3篇刘野
  • 3篇潘玉鹏
  • 2篇许世鹏
  • 2篇程芳
  • 1篇李洪玉
  • 1篇王萌萌
  • 1篇王宇
  • 1篇张春宇
  • 1篇邬岩
  • 1篇金瑞

传媒

  • 2篇真空
  • 1篇表面技术
  • 1篇中国表面工程

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 3篇2013
  • 1篇2012
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
负偏压对电弧离子镀复合TiAlN薄膜的影响被引量:8
2012年
采用电弧离子镀技术,以W18Cr4V高速钢为基体,调整基体负偏压,制得多个复合TiAlN薄膜试样,研究了基体负偏压对薄膜微观组织形貌、物相组成、晶格位向、硬度、厚度和沉积速率的影响。结果表明,过高或过低的负偏压会使得膜层表面不平整,显微硬度下降。当负偏压为200 V时,膜层的沉积速率最大;负偏压为150 V时,有利于薄膜(111)晶面的择优取向生长,且TiAlN膜的硬度最高。
黄美东许世鹏刘野薛利潘玉鹏范喜迎
关键词:电弧离子镀TIALN薄膜
脉冲偏压对多弧离子沉积TiAlN薄膜微观结构的影响研究
采用多弧离子镀的方法在高速钢基底上沉积氮化钛铝硬质薄膜。本地真空为3*10Pa,实验采用高纯钛靶和铝靶镀膜,并且氩气作为辅助气体0.1Pa,氮气为反应气体0.4Pa,镀膜气压一共为0.5Pa。实验前进行辉光清洗15分钟,...
薛利黄美东潘玉鹏范喜迎李云珂
文献传递
脉冲偏压占空比对复合离子镀TiCN涂层结构和性能的影响被引量:10
2014年
采用多弧离子镀和磁控溅射复合离子镀技术在高速钢基底上制备TiCN涂层,通过改变脉冲偏压占空比的大小获得了不同的涂层试样,利用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏硬度计等对涂层进行表征,研究占空比对TiCN涂层组织结构和力学性能的影响。结果表明:随着脉冲偏压占空比的增加,TiCN涂层的表面大颗粒逐渐减少,表面形貌得到改善。涂层结构中,(111)晶面的择优取向趋势明显,沉积速率和显微硬度均出现先增大后减小的趋势,且在占空比为40%时均达最大值。TiCN涂层的最高硬度为3 800HV0.025,约为基底硬度的4倍。
程芳黄美东王萌萌范喜迎李云珂刘野
关键词:显微硬度
脉冲偏压磁过滤电弧离子沉积(Ti,Al)N薄膜的研究被引量:1
2016年
利用脉冲偏压磁过滤电弧离子沉积技术在不同负偏压下制备了(Ti,Al)N薄膜,通过扫描电子显微镜、XP-2台阶仪、纳米压痕仪和X射线衍射仪分别测试分析了脉冲偏压与磁过滤共同的作用对薄膜的微观结构、成份、薄膜厚度、显微硬度和晶体结构的影响规律。实验结果表明,在基体上施加脉冲偏压和在电弧蒸发源上使用磁过滤技术,可改善所制备薄膜的组织结构、提高其综合力学性能。通过对在不同负偏压下所制备的样品的综合力学性能的测试分析可得出:在负偏压为200V时制备的样品综合力学性能最好。
王宇黄美东邬岩金瑞张春宇范喜迎
关键词:电弧离子镀脉冲偏压
氮气流量对电弧离子镀CrN薄膜组织结构和性能的影响被引量:3
2013年
利用电弧离子镀技术在高速钢基体上于不同氮气流量条件下制备CrN薄膜样品,通过纳米压痕仪、XP-2台阶仪、SEM和XRD测试分析了薄膜的硬度、弹性模量、厚度、表面形貌和物相结构。实验结果表明,氮气流量对CrN薄膜的组织结构和力学性能都具有较为明显的影响。
范喜迎黄美东李洪玉刘野许世鹏薛利潘玉鹏
关键词:电弧离子镀CRN薄膜
电弧离子镀TiN/Ti纳米多层膜的力学性能
近年来,物理气相沉积法制备的超硬薄膜具有高硬度、良好的摩擦性能且化学性能稳定等优良性能,被广泛应用于刀具、模具、各种耐磨零件以及微电子等领域之中。随着加工要求的不断提高,研究综合性能更优良的薄膜显得越来越重要。本工作利用...
程芳黄美东薛利范喜迎李云珂陈广宵
文献传递
共1页<1>
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