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黄美东

作品数:75 被引量:262H指数:9
供职机构:天津师范大学物理与材料科学学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金天津市自然科学基金天津市高等学校科技发展基金计划项目更多>>
相关领域:理学金属学及工艺一般工业技术机械工程更多>>

文献类型

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领域

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主题

  • 29篇溅射
  • 26篇磁控
  • 26篇磁控溅射
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  • 20篇电弧离子镀
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  • 12篇光学
  • 10篇TIN薄膜
  • 8篇光学性
  • 8篇光学性能
  • 7篇透射
  • 7篇表面形貌
  • 7篇TIN
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  • 6篇射频磁控
  • 6篇射频磁控溅射
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作者

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传媒

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年份

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  • 6篇2011
  • 5篇2010
  • 7篇2009
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  • 5篇2002
  • 5篇2001
  • 1篇2000
  • 1篇1998
75 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
负偏压对电弧离子镀复合TiAlN薄膜的影响被引量:8
2012年
采用电弧离子镀技术,以W18Cr4V高速钢为基体,调整基体负偏压,制得多个复合TiAlN薄膜试样,研究了基体负偏压对薄膜微观组织形貌、物相组成、晶格位向、硬度、厚度和沉积速率的影响。结果表明,过高或过低的负偏压会使得膜层表面不平整,显微硬度下降。当负偏压为200 V时,膜层的沉积速率最大;负偏压为150 V时,有利于薄膜(111)晶面的择优取向生长,且TiAlN膜的硬度最高。
黄美东许世鹏刘野薛利潘玉鹏范喜迎
关键词:电弧离子镀TIALN薄膜
超短激光双脉冲在硝基苯胺分子介质中传播的动力学过程
2013年
通过数值求解麦克斯韦-布洛赫方程,研究了2个相干超短激光脉冲在硝基苯胺分子(pNA分子)介质中的非线性传播过程.量化计算表明该分子在低能级区域内只有1个电荷转移态,因此可把该分子看作二能级体系.当3π共振脉冲与4π非共振脉冲先后入射到硝基苯胺分子介质中进行传播时,3π脉冲的能量将转移给后面的4π脉冲,前者面积逐渐变为2π,激发分子能级占有率发生一次完整的拉比振荡;后者在介质中仍保持非共振传播,只能激发分子能级占有率发生不完整的拉比振荡.脉冲的频谱发生展宽,并在共振频率附近振荡剧烈.通过引入固有偶极矩为零的赝分子作为比较对象,发现硝基苯胺分子的固有偶极矩导致非线性传播过程更为复杂.
李洪玉黄美东竺云
关键词:超短脉冲激光固有偶极矩
磁控溅射氧化钛薄膜的光学性能被引量:2
2013年
常温下,通过反应磁控溅射法在K9双面抛光玻璃基底上制备氧化钛薄膜.采用X线衍射(X-rayDiffraction,XRD)、光栅光谱仪和椭偏仪对氧化钛薄膜样品的结构和光学性能进行测试,并拟合分析得到薄膜的折射率和厚度等光学参数.结果表明:氧化钛纳米薄膜呈非晶态,其折射率和消光系数随波长的变化而变化,薄膜的透射率测量结果和理论计算结果在350~800 nm光波范围内吻合良好.由于氧化钛薄膜的折射率高且在可见光波段吸收小、呈透明状,是用来构成一维光子晶体的理想组分,有关其光学性能的基础研究对光子晶体的结构设计及其器件的开发应用具有积极的意义.
程芳黄美东王丽格杜姗唐晓红刘春伟
关键词:氧化钛薄膜磁控溅射透射率光学性能消光系数晶体结构
电弧离子镀不同色泽TiN薄膜的工艺研究被引量:2
2013年
采用电弧离子镀的方法,在硅片上制备TiN仿金装饰膜层,主要研究氮气分压和基体偏压两个工艺参数对TiN薄膜色泽的影响。结果表明,氮气压强对TiN薄膜的色泽有明显的影响和控制作用。随着氮气分压的增大,薄膜的色泽由浅黄色向红棕色变化。实验发现,基体偏压对膜层的色泽也有一定的影响,当氮气分压一定时,施加偏压所得TiN薄膜比不施加的颜色更浅。可见,通过调节基体偏压和氮气流量,可以获得所需颜色的TiN薄膜。
刘野黄美东路少怀吴功航李洪玉
关键词:多弧离子镀TIN薄膜色泽
用铝丝掺杂溅射ZnO薄膜的光电性能研究
2015年
本文采用射频磁控反应溅射法于常温下在硅片和玻璃基片上制备ZnO和掺铝ZnO薄膜,将铝丝置于ZnO靶材上共同溅射来达到掺杂的效果,利用不同长度的铝丝以获得不同的掺杂量。通过X射线衍射法对薄膜进行结构分析,利用紫外-可见分光光度计获得薄膜的透过率光谱,霍尔效应仪测量薄膜的电学性能。发现所制备的样品在可见光区域透过率达到80%以上,达到了透明膜的要求;掺Al后的ZnO膜电阻率最低达到了4.25×10-4Ω·cm;结构表征发现样品的(002)晶面有明显衍射峰。基于包络线方法通过透射谱拟合计算了薄膜样品的折射率和厚度。
王小龙黄美东张建鹏高倩杨明敏
关键词:氧化锌薄膜射频磁控溅射光学性能载流子浓度
复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌
2012年
本工作将阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法结合形成复合镀膜工艺,即用电弧蒸发Ti靶的同时,用磁控溅射Al靶,并通入反应气体N2,以在高速钢基底上镀制AlTiN薄膜,考察了复合镀膜方法获得的AlTiN薄膜的表面形貌,并将其与单一法镀膜的表面形貌进行了对比分析。电弧离子镀制备的AlTiN薄膜表面颗粒很多,而且尺寸大,表面很粗糙,磁控溅射制备的AlTiN薄膜表面光滑平整,复合镀得到的AlTiN薄膜表面粗糙度介于二者之间,但从形貌上看,复合镀的薄膜呈现出典型的层状生长特征,在SEM下可清晰地看到表面的层状生长在部分区域不完全。测试发现,复合镀薄膜形貌并不是电弧镀和溅射镀薄膜形貌的简单混合,而是具有自身独特的特征,这可能是由于电弧弧光等离子体与溅射的辉光等离子体相互作用的结果。
佟莉娜黄美东孟凡宇刘野张学谦王丽格杜珊
关键词:表面形貌
溅射氧化钛薄膜的光学性能及热处理对其结构的影响
2012年
常温下采用反应磁控溅射法在K9双面抛光玻璃基底上沉积氧化钛薄膜,通过X射线衍射仪、光栅光谱仪和椭偏仪对氧化钛薄膜样品的光学和结构参数进行测试和分析.结果表明:溅射沉积的氧化钛纳米薄膜呈非晶态;其折射率和消光系数在可见光波段随波长的增大呈指数规律迅速变小,最终趋于一常数,氧化钛薄膜消光系数的平均值很小表明它在可见光波段是透明的;根据所得光学参数计算得到薄膜的透射率在350~800nm光波范围内,与实验测量结果吻合;沉积的氧化钛薄膜样品经过450℃保温6h的退火热处理后,由非晶态转化为晶态.
蒋甜甜黄美东杜姗
关键词:氧化钛薄膜磁控溅射折射率退火处理
复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌的研究
AlTiN作为一种新型涂层材料,具有硬度高、氧化温度高、红硬性好、附着力强、摩擦系数小、导热率低等优良特性,广泛用于汽车、模具行业等。常见的AlTiN薄膜制备方法主要阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法两种。由于这两种方...
佟莉娜黄美东刘野张学谦王丽格杜珊
文献传递
不同氩气流量下溅射所得TiO_x薄膜的结构和光学性能
2014年
为探究不同氩气流量对TiOx薄膜结构和光学性能的影响,采用常温反应磁控溅射法,在K9双面抛光玻璃基底上制备TiOx薄膜样品,利用X线衍射分析样品的晶体结构,通过原子力显微镜观察样品表面结构,使用光栅光谱仪测试样品透射率,并计算得到薄膜沉积速率和消光系数等光学参数.实验结果表明:氩气流量对TiOx薄膜的光学性能具有较为明显的影响,随着氩气流量的增加,薄膜的光学厚度和沉积速率随之增加,而折射率有微小增加,消光系数受氩气流量的影响不大.
刘春伟黄美东杜姗唐晓红吕长东
关键词:氧化钛薄膜磁控溅射透射谱
基底温度对反应磁控溅射氮化铝薄膜的影响
采用反应磁控溅射法在光学玻璃基底上制备AlN薄膜,研究了温度对薄膜结构、硬度及光学性能的影响。结果表明,用此方法获得的AlN薄膜是晶态的,温度对AlN的择优取向有一定影响。随沉积温度升高,薄膜硬度及弹性模量增大。在可见光...
张琳琳黄美东李鹏王丽格佟莉娜
关键词:氮化铝薄膜基底温度
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