张琳琳
- 作品数：11 被引量：18H指数：2
- 供职机构：天津师范大学物理与电子信息学院更多>>
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- 相关领域：理学一般工业技术电子电信机械工程更多>>
- 磁控溅射AlN薄膜的光学性能研究
- 利用磁控溅射方法在不同的沉积条件下制备了AlN薄膜样品,所采用的基体为K9光学抛光玻璃。用XRD测试和分析了薄膜的物相及结晶状态,AFM观测了薄膜表面的形貌和粗糙度。由于AlN薄膜透明且绝缘性能好、对可见光的吸收小,是一...
- 吉亚萍黄美东李鹏张琳琳
- 文献传递
- 基底温度对反应磁控溅射氮化铝薄膜的影响
- 采用反应磁控溅射法在光学玻璃基底上制备AlN薄膜，研究了温度对薄膜结构、硬度及光学性能的影响。结果表明，用此方法获得的AlN薄膜是晶态的，温度对AlN的择优取向有一定影响。随沉积温度升高，薄膜硬度及弹性模量增大。在可见光...
- 张琳琳黄美东李鹏王丽格佟莉娜
- 关键词：氮化铝薄膜基底温度
- 磁控溅射TiN的色泽研究
- 用反应直流溅射方法，在抛光后的W18Cr4V高速钢基体的表面上制备TiN膜层。利用SEM对薄膜表面形貌进行了观测，通过色度计研究了氮气流量、偏压对TiN薄膜色泽的影响。结果表明，偏压和氮气流量对TiN色泽都有影响，而后者...
- 李鹏黄美东佟莉娜张琳琳王丽格
- 关键词：TIN薄膜磁控溅射色泽
- 文献传递
- 采用不同功率溅射制备氧化钛薄膜的研究
- 2012年
- 常温下,利用射频(RF)反应磁控溅射方法在K9双面抛光玻璃基底上沉积氧化钛薄膜.采用光栅光谱仪对薄膜样品的透射谱进行测试,通过椭圆偏振光谱仪测试并拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数等光学参数,借助掠入射角X-射线衍射对薄膜的结晶状态进行了测试.实验结果表明:不同溅射功率下沉积的样品呈非晶态,在40～100W范围内,溅射功率越大,薄膜的沉积速率越大,但溅射功率对折射率和消光系数影响不大.
- 王丽格黄美东李洪玉张琳琳佟莉娜杜姗
- 关键词：溅射功率磁控溅射氧化钛薄膜光学性能
- 溅射沉积TiO_2薄膜结构及性能的基础研究被引量：1
- 2010年
- 采用超高真空反应射频磁控溅射方法,利用高纯Ti靶在光学玻璃基底上制备具有一定厚度的TiO2薄膜样品.通过扫描探针显微镜对其表面形貌进行观测和分析,利用XRD初步探讨了退火对薄膜结构及其透射率的影响,并研究了不同O2/Ar流量比对薄膜沉积速率的影响.
- 吉亚萍张琳琳李鹏侯兴刚黄美东
- 关键词：磁控溅射TIO2薄膜退火
- 磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较被引量：14
- 2011年
- 分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜.
- 李鹏黄美东佟莉娜张琳琳王丽格李晓娜
- 关键词：TIN磁控溅射电弧离子镀
- 负偏压对反应磁控溅射AlN薄膜的影响被引量：1
- 2011年
- 利用反应磁控溅射制备AlN薄膜,研究了基底负偏压对薄膜结构及其性能的影响.XRD和SEM结果表明:用此方法获得的AlN薄膜呈晶态,负偏压对AlN择优取向产生一定的影响,随着偏压的增大,薄膜表面晶粒尺寸有长大趋势.根据透射谱测试和包络线计算结果可知,薄膜在可见光和红外区域透射率高,随着偏压的增大,薄膜的折射率也随之增大.
- 张琳琳黄美东李鹏王丽格佟莉娜
- 关键词：ALN薄膜
- 负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响
- 采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜，在其他参数不变的情况下，着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响。实验结果表明，随着负偏压的增加，沉积速率不断增加，但在一定的负偏压达到最大值后，沉积速率又随偏压增大而减小...
- 佟莉娜黄美东李鹏张琳琳王丽格
- 关键词：多弧离子镀TIN薄膜沉积速率
- 工作气压对溅射氮化铝薄膜结构和光学性能的影响
- 采用射频反应磁控溅射系统制备氮化铝（AlN）薄膜,通过实验测试并结合数值拟合计算研究了工作气压对其结构和光学性能的影响。结果表明,所获得的AlN薄膜样品是晶态的,其晶格属六方晶系,工作气压增大对AlN薄膜的生长取向有一定...
- 黄美东杜姗王丽格张琳琳
- 关键词：ALN薄膜工作气压透射谱
- 文献传递
- 基底温度对反应磁控溅射氮化铝薄膜的影响被引量：2
- 2011年
- 采用反应磁控溅射法结合加热控温电源,在光学玻璃基底上制备氮化铝(AlN)薄膜,通过X射线衍射(XRD)技术对薄膜样品物相结构进行分析,利用纳米压痕仪测试薄膜样品的硬度及弹性模量,用椭圆偏振仪及光栅光谱仪测试了薄膜样品的光学性能,分析和研究了基底温度对AlN薄膜的结构及性能的影响。结果表明,用此方法获得的AlN薄膜呈晶态,属于六方晶系,温度对AlN(100)面衍射峰强度影响不大,但对(110)面衍射峰的影响较大,因而温度对AlN的择优取向有一定影响。AlN(100)峰半高宽随温度升高而减小,表明晶粒尺寸随温度升高有变大趋势。随沉积温度升高,薄膜硬度从150℃的8 GPa增加到350℃的10 GPa左右,随基底温度升高,薄膜的硬度增加。弹性模量随温度的变化趋势与硬度的基本一致。在可见光区域AlN薄膜透过率超过90%,基本属于透明膜。基底温度对薄膜折射率也有较明显影响,折射率大致随温度升高而增大,但由椭偏测试及透射谱线分析得到的厚度结果表明,随温度升高,AlN薄膜的沉积速率下降。
- 黄美东张琳琳王丽格佟莉娜李晓娜董闯
- 关键词：氮化铝薄膜基底温度
