王丽格
- 作品数：16 被引量：23H指数：2
- 供职机构：天津师范大学物理与电子信息学院更多>>
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- 磁控溅射氧化钛薄膜的光学性能被引量：2
- 2013年
- 常温下,通过反应磁控溅射法在K9双面抛光玻璃基底上制备氧化钛薄膜.采用X线衍射(X-rayDiffraction,XRD)、光栅光谱仪和椭偏仪对氧化钛薄膜样品的结构和光学性能进行测试,并拟合分析得到薄膜的折射率和厚度等光学参数.结果表明:氧化钛纳米薄膜呈非晶态,其折射率和消光系数随波长的变化而变化,薄膜的透射率测量结果和理论计算结果在350～800 nm光波范围内吻合良好.由于氧化钛薄膜的折射率高且在可见光波段吸收小、呈透明状,是用来构成一维光子晶体的理想组分,有关其光学性能的基础研究对光子晶体的结构设计及其器件的开发应用具有积极的意义.
- 程芳黄美东王丽格杜姗唐晓红刘春伟
- 关键词：氧化钛薄膜磁控溅射透射率光学性能消光系数晶体结构
- 射频磁控溅射法制备TiO/_2和Al/_2O/_3薄膜的研究
- 本文利用FJL560CI2型高真空射频磁控溅射系统在K9双面抛光玻璃基底上镀制了两个系列的氧化物薄膜—TiO2和Al2O3薄膜。TiO2薄膜是在氩气氛围下通过直接溅射高纯度的TiO2靶而得到,Al2O3,薄膜则是在氧氩混...
- 王丽格
- 关键词：二氧化钛薄膜射频磁控溅射法光学性能
- 文献传递
- 复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌
- 2012年
- 本工作将阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法结合形成复合镀膜工艺,即用电弧蒸发Ti靶的同时,用磁控溅射Al靶,并通入反应气体N2,以在高速钢基底上镀制AlTiN薄膜,考察了复合镀膜方法获得的AlTiN薄膜的表面形貌,并将其与单一法镀膜的表面形貌进行了对比分析。电弧离子镀制备的AlTiN薄膜表面颗粒很多,而且尺寸大,表面很粗糙,磁控溅射制备的AlTiN薄膜表面光滑平整,复合镀得到的AlTiN薄膜表面粗糙度介于二者之间,但从形貌上看,复合镀的薄膜呈现出典型的层状生长特征,在SEM下可清晰地看到表面的层状生长在部分区域不完全。测试发现,复合镀薄膜形貌并不是电弧镀和溅射镀薄膜形貌的简单混合,而是具有自身独特的特征,这可能是由于电弧弧光等离子体与溅射的辉光等离子体相互作用的结果。
- 佟莉娜黄美东孟凡宇刘野张学谦王丽格杜珊
- 关键词：表面形貌
- 复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌的研究
- AlTiN作为一种新型涂层材料,具有硬度高、氧化温度高、红硬性好、附着力强、摩擦系数小、导热率低等优良特性,广泛用于汽车、模具行业等。常见的AlTiN薄膜制备方法主要阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法两种。由于这两种方...
- 佟莉娜黄美东刘野张学谦王丽格杜珊
- 文献传递
- 基底温度对反应磁控溅射氮化铝薄膜的影响
- 采用反应磁控溅射法在光学玻璃基底上制备AlN薄膜，研究了温度对薄膜结构、硬度及光学性能的影响。结果表明，用此方法获得的AlN薄膜是晶态的，温度对AlN的择优取向有一定影响。随沉积温度升高，薄膜硬度及弹性模量增大。在可见光...
- 张琳琳黄美东李鹏王丽格佟莉娜
- 关键词：氮化铝薄膜基底温度
- 磁控溅射TiN的色泽研究
- 用反应直流溅射方法，在抛光后的W18Cr4V高速钢基体的表面上制备TiN膜层。利用SEM对薄膜表面形貌进行了观测，通过色度计研究了氮气流量、偏压对TiN薄膜色泽的影响。结果表明，偏压和氮气流量对TiN色泽都有影响，而后者...
- 李鹏黄美东佟莉娜张琳琳王丽格
- 关键词：TIN薄膜磁控溅射色泽
- 文献传递
- 采用不同功率溅射制备氧化钛薄膜的研究
- 2012年
- 常温下,利用射频(RF)反应磁控溅射方法在K9双面抛光玻璃基底上沉积氧化钛薄膜.采用光栅光谱仪对薄膜样品的透射谱进行测试,通过椭圆偏振光谱仪测试并拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数等光学参数,借助掠入射角X-射线衍射对薄膜的结晶状态进行了测试.实验结果表明:不同溅射功率下沉积的样品呈非晶态,在40～100W范围内,溅射功率越大,薄膜的沉积速率越大,但溅射功率对折射率和消光系数影响不大.
- 王丽格黄美东李洪玉张琳琳佟莉娜杜姗
- 关键词：溅射功率磁控溅射氧化钛薄膜光学性能
- 退火处理对TiO2薄膜结构和透射性能的影响
- 二氧化钛薄膜具有优良的介电、压电、气敏和光催化性能,在微电子、光学、传感器和光催化方面有着重要的应用。二氧化钛还具有坚硬、抗化学腐蚀,在整个可见和近红外光谱区都透明,透射率高、折射率大、化学稳定性高等优异性能,所以研究二...
- 王丽格黄美东杜珊佟莉娜刘野
- 文献传递
- 退火处理对TiO_2薄膜结构和透射的影响
- 2012年
- 在常温下,采用射频反应磁控溅射方法在不同溅射功率下于K9双面抛光玻璃基底上制备二氧化钛薄膜。将制备的样品进行450℃退火6 h热处理。利用X射线衍射仪(XRD)对比分析了退火前后薄膜的微观结构,采用光栅光谱仪测试了退火前后薄膜样品的透射谱。实验结果表明,退火前薄膜样品是非晶态,退火后薄膜晶化为晶态,但不同溅射功率下制备的薄膜结晶取向有差异;退火热处理对薄膜的折射率有一定影响,表现为退火前后透射谱偏移。
- 王丽格黄美东杜珊佟莉娜刘野
- 关键词：退火磁控溅射二氧化钛薄膜
- 磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较被引量：14
- 2011年
- 分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜.
- 李鹏黄美东佟莉娜张琳琳王丽格李晓娜
- 关键词：TIN磁控溅射电弧离子镀
