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文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇激光
  • 3篇激光器
  • 2篇功率
  • 2篇大功率
  • 1篇单量子阱
  • 1篇低噪
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  • 1篇优化设计
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  • 1篇硅基
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  • 1篇半导体
  • 1篇半导体激光

机构

  • 4篇重庆光电技术...
  • 3篇重庆邮电大学
  • 2篇重庆教育学院

作者

  • 4篇王培界
  • 2篇宋爱民
  • 2篇张莹
  • 2篇张靖
  • 1篇王品红
  • 1篇黄茂
  • 1篇钟冬梅
  • 1篇田坤
  • 1篇冯琛

传媒

  • 2篇半导体光电
  • 1篇数字通信
  • 1篇重庆邮电大学...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2012
  • 2篇2011
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
1310nm大功率低噪声DFB激光器设计被引量:2
2014年
对工作波长为1 310nm的大功率低噪声DFB激光芯片结构进行了优化设计。分别对具有相同非对称分别限制层(SCH)外延层的掩埋异质结构(BH)和脊波导结构(RWG)进行了建模仿真。计算结果表明:非对称SCH结构较对称SCH结构,可明显提高激光输出功率;相比于RWG结构,BH结构对载流子有更好的限制作用,从而降低相对强度噪声(RIN)。优化设计后的DFB激光器输出功率高达207mW@600mA,斜率效率为0.36W/A,边模抑制比为50dB,在1~30GHz范围内,激光器的相对强度噪声小于-160dB/Hz。
冯琛张靖田坤王培界黄茂
关键词:大功率DFB激光器
980nm半导体激光器高反膜的优化设计
2011年
通过软件模拟和理论分析,对980nm半导体激光器高反膜的结构进行了优化设计。选定Ta2O5/SiO2作为980nm半导体激光器的高反膜材料,通过软件TFCalc进行仿真,对3种不同膜系结构的反射率和电场强度进行了对比分析,对镀膜后和未镀膜的器件分别进行测试。仿真结果表明:膜系结构为Al2O3(Ta2O5/SiO2)7Ta2O5的高反膜性能良好,镀膜后的阈值电流减小了20mA左右,斜率效率从0.48增加到了0.86。
张莹宋爱民王培界
关键词:半导体激光器高反膜
980nm应变量子阱激光器外延层工艺参数的优化设计被引量:5
2012年
对980 nm应变量子阱激光器的外延层工艺参数进行优化设计。通过理论计算和软件模拟相结合的方法,优化了量子阱的结构,研究了波导层、包层中的Al组分对量子阱激光器效率的影响。根据优化结果,采用金属有机化合物化学气相淀积(metal organic chemical vapor deposition,MOCVD)技术外延生长了激光器的材料,并进行测试。测试结果表明,在室温下,当工作电流为1 A时,阈值电流为150 mA,斜率效率为0.48 W/A(采用150μm×500μm,未镀膜器件),输出功率为400 mW。
张莹宋爱民王培界
关键词:单量子阱压应变AL组分
硅基热沉大功率LED封装阵列散热分析被引量:4
2011年
为求解硅基热沉大功率LED封装阵列在典型工作模式下的热传导情况,采用Solidworks建立了2×2封装阵列的三维模型,模拟了其温度场分布,同时结合传热学基本原理分析计算了模型各部分的温度值,并对实际工艺制备出的封装器件的结温进行了测量。结果表明,理论计算值与热仿真结果基本一致,测量值也能很好地与理论计算值相吻合。
张靖钟冬梅王培界王品红
关键词:大功率LED热传导热分析SOLIDWORKS
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