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刘剑

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:中国电子科技集团公司更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 1篇带隙
  • 1篇乳胶
  • 1篇碳化硅
  • 1篇探测器
  • 1篇硼扩散
  • 1篇紫外光电探测...
  • 1篇模拟软件
  • 1篇结深
  • 1篇抗反射
  • 1篇宽带隙
  • 1篇光电
  • 1篇光电探测
  • 1篇光电探测器
  • 1篇方阻
  • 1篇半导体
  • 1篇PROCES...
  • 1篇TCAD
  • 1篇CV

机构

  • 3篇中国电子科技...
  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇中国人民解放...

作者

  • 4篇刘剑
  • 2篇吴会利
  • 2篇宋玲玲
  • 1篇申猛

传媒

  • 4篇微处理机

年份

  • 2篇2014
  • 2篇2013
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
紫外光电探测器研制
2013年
采用宽带隙半导体材料SiC,进行紫外光电探测器的制备。基于机械性能和化学稳定性考虑,增透抗反膜的制备采用SiO2+Al2O3工艺,同时对其表面钝化层和增透抗反膜工艺进行了研究讨论。
吴会利刘剑申猛
关键词:碳化硅光电探测器宽带隙抗反射
模拟软件在基区方阻实验中的应用
2014年
随着IC工艺和器件物理研究的进展以及计算机技术的发展成熟,集成电路模拟软件的功能和应用也同步扩展。目前国内大型生产线上几乎均采用了同类软件,主要用于工艺建模、优化工艺流程,一旦模拟与实验拟合较好,建立模型库,将极大的节省实验所需时间、人力和物料。主要采用的是Sentaurus TCAD软件模拟了TTL工艺的基区注入后扩散情况,模拟结果与实验结果非常接近,该结果已经多次应用在产品的研制生产中。
宋玲玲刘剑李浩
关键词:结深方阻
CV测试中的一种异常现象及解决方法
2013年
针对半导体CV测试中出现的一种曲线异常现象进行分析,找出问题所在,最终得出解决的办法。并提出一些有利于改进CV测试效果的建议。
刘剑吴会利
乳胶源硼扩散的SENTAURUS模拟
2014年
利用半导体TCAD工具Sentaurus对硅片的乳胶源掺硼扩散工艺进行模拟,用淀积后的退火处理过程替代注入后退火的模拟方案,以多种实测条件为标准,用两种条件进行模拟,并结合实测数据,对模型结果进行比较,找到模拟的最终可行方案,弥补Sentaurus软件功能模块上的不足。
刘剑宋玲玲
共1页<1>
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