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吴琼瑶

作品数:8 被引量:14H指数:2
供职机构:重庆光电技术研究所更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术理学更多>>

文献类型

  • 8篇中文期刊文章

领域

  • 6篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 4篇CCD
  • 2篇刻蚀
  • 1篇单粒子
  • 1篇电荷耦合
  • 1篇电荷耦合器
  • 1篇电荷耦合器件
  • 1篇电离
  • 1篇电离辐射
  • 1篇迭代
  • 1篇多维度
  • 1篇质子
  • 1篇质子辐照
  • 1篇日盲
  • 1篇探测器
  • 1篇图像
  • 1篇图像传感器
  • 1篇欧姆接触
  • 1篇紫外探测
  • 1篇紫外探测器
  • 1篇总剂量

机构

  • 8篇重庆光电技术...
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 8篇吴琼瑶
  • 3篇李晓潮
  • 1篇陈林
  • 1篇向勇军
  • 1篇叶嗣荣
  • 1篇汪朝敏
  • 1篇周旭东
  • 1篇杨亚生
  • 1篇邓艳红
  • 1篇黄烈云
  • 1篇刘小芹
  • 1篇赵文伯
  • 1篇郑渝
  • 1篇刘昌举
  • 1篇黄绍春
  • 1篇廖乃镘
  • 1篇程顺昌
  • 1篇刘昌林
  • 1篇吴琼瑶
  • 1篇曲鹏程

传媒

  • 3篇半导体光电
  • 2篇中国检验检测
  • 1篇电子技术(上...
  • 1篇电子产品可靠...
  • 1篇科技与创新

年份

  • 1篇2021
  • 3篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2012
  • 1篇2010
  • 1篇2007
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
CMOS图像传感器抗电离辐射加固技术研究被引量:3
2020年
太空环境中的电离辐射会导致CMOS图像传感器性能退化,甚至造成永久性损毁。文章对CMOS图像传感器抗电离辐射加固技术进行了研究,从版图设计、电路设计等方面提出相应的抗辐射策略,并进行了总剂量和单粒子试验。试验结果表明,采用抗辐射加固技术设计制作的CMOS图像传感器具备抗总剂量和单粒子辐射能力,当总剂量达到100krad(Si)、单粒子辐射总注量达到1×10^7 p/cm^2时,器件的关键指标变化符合预期要求。
吕玉冰吴琼瑶刘昌举李明周亚军刘戈扬
关键词:CMOS图像传感器总剂量效应单粒子
CCD组件靶面脏斑成因分析及解决方法
2010年
通过三项试验,找到了CCD摄像机组件靶面脏斑形成的原因。潮湿的自然环境、温度变化和运输振动三个因素促成CCD组件机壳内的水汽吸附灰尘,凝聚到芯片靶面上形成脏斑。提出了解决脏斑问题的具体方法。通过在CCD组件的装配、包装过程中采取针对性措施来保证密封性能,这样就能在存储和运输过程中避开空气中的灰尘、水汽等脏斑源,靶面上就不会因受潮而产生脏斑。采取这些措施后,在后续产品中脏斑问题得到了彻底解决。
杨亚生周旭东陈林邓艳红熊明昌郑渝吴琼瑶
关键词:CCD
近红外增强CCD成像器件研究被引量:1
2021年
阐述采用背照式CCD工艺,制备一种新型的近红外增强CCD。相比较传统的近红外增强CCD(增加外延层厚度),基于反应离子刻蚀法在该器件背面进行了黑硅制作,在紫外光(波长250nm)到近红外光(波长2500nm)都具有高吸收率,可以增强CCD近红外响应灵敏度。结果表明,在400~1060nm波长范围内,黑硅反射率小于7%,吸收率大于93%。黑硅CCD近红外响应得到增强,与常规CCD相比,在波长950~1060nm的量子效率分别从34%和1%提高到41.8%和16.1%。
曲鹏程陈清华吴琼瑶廖乃镘岳志强廖晓航刘昌林
关键词:反应离子刻蚀
光电耦合器内部气氛控制技术及工艺研究被引量:1
2020年
为满足尖端领域对高可靠性元器件内部气氛控制的要求,分析了内部气氛的构成及现有内部气氛控制水平,并基于现有工艺,采取多维度内部气氛控制的工艺措施,在各工艺维度上,通过试验研究对工艺条件进行迭代验证,并增加配套控制措施,确定了各工艺维度的条件。经过试验验证,内部气氛控制水平有显著提升,可满足航天高可靠性的控制要求且有较大余量。
吴琼瑶
关键词:光电耦合器
日盲型AlGaN PIN紫外探测器的研制被引量:8
2007年
采用MOCVD方法在双面抛光的(0001)蓝宝石衬底上生长了高铝组分AlGaN材料,研制出日盲型AlGaN PIN紫外探测器。详细介绍了该器件的结构设计和制作工艺,并对该器件进行了光电性能测试。测试结果表明:器件的正向开启电压约为4.5 V,反向击穿电压大于20V;常温下(300 K),该器件在3 V反向偏压下的暗电流约为50 pA,在零偏压下270 nm处峰值响应度达到0.12 A/W,长波截止波长小于285 nm。
黄烈云吴琼瑶赵文伯叶嗣荣向勇军刘小芹黄绍春
关键词:紫外探测器ALGAN日盲刻蚀欧姆接触
高速InGaAs光电探测器可靠性寿命评估
2020年
随着航天应用高速InGaAs探测器的迅速发展,其可靠性问题日益突出,本文选择温度应力与光应力为加速应力,通过爱林模型与恒定应力加速寿命试验方法对XX型高速InGaAs探测器进行了研究,获得了InGaAs探测器在4种组合应力下的退化数据与寿命模型,进而推算出器件在正常工作状态下的寿命.
吴琼瑶李晓潮伍明娟李钦刘吉
关键词:INGAAS
酒精粗检漏在CCD中的应用被引量:1
2012年
针对酒精粗检漏试验中所遇到的一些问题,阐述了应当采用何种手段来确保整个粗检漏试验过程中,不会因为干扰因素而对试验结果进行误判。
李晓潮王钢荣吴琼瑶程顺昌王微频
关键词:电荷耦合器件密封
国产CCD质子辐照的失效机理研究
2019年
针对国产XXX型CCD,开展了10MeV质子辐照损伤试验研究。本文介绍了质子辐照试验方法,分析了CCD在不同状态下质子辐照试验的损伤机理,确定了暗信号幅度为其敏感参数,并对暗信号的退化机理进行了分析。
吴琼瑶李钦汪朝敏李晓潮刘吉
关键词:质子辐照CCD
共1页<1>
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