公共文化服务平台

蒋继文: 作品数：13 被引量：10H指数：2; 供职机构：中国建材国际工程集团有限公司更多>>; 发文基金：安徽省科技攻关计划更多>>; 相关领域：一般工业技术理学电子电信机械工程更多>>

合作作者

高透过消影导电玻璃: 一种高透过消影导电玻璃，包括沿垂直方向依次层叠的玻璃基板，折射率匹配层，和透明导电膜层，所述折射率匹配层由高折射率层，折射率渐变层，及低折射率层组成，所述折射率渐变层沿垂直方向位于所述高折射率层和所述低折射率层之间，所述...; 徐根保蒋继文张宽翔姚婷婷曹欣杨勇金克武

具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法: 一种具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法，包括如下步骤：(1)采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对金属基片进行喷淋(2)清洗金属基片，后用高压N2吹干；(3)采用磁控溅射技术在所述金属基片表面微...; 彭寿杨勇王芸徐根保李刚曹欣姚婷婷蒋继文张宽翔金克武; 文献传递

直流磁控溅射工艺对ITO薄膜光电性能的影响被引量：8: 2016年; 采用直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、分光光度计、Hall效应测试系统研究了热退火与原位生长、衬底温度、直流溅射功率对薄膜结构、表面形貌以及光电性能的影响。结果表明:与室温生长并经410℃热退火后的薄膜相比,410℃原位生长可获得光电性能更好的薄膜;随着衬底温度的增加,电阻率单调减小,光学吸收边出现蓝移;在溅射功率为85 W时薄膜的光电性能达到最佳。在衬底温度为580℃、溅射功率为85 W的工艺条件下,可制备出电阻率为1.4×10^(–4)?·cm、可见光范围内平均透过率为93%的光电性能优异的ITO薄膜。; 彭寿蒋继文李刚张宽翔杨勇姚婷婷金克武曹欣徐根保王芸; 关键词：直流磁控溅射氧化铟锡薄膜衬底温度溅射功率

脉冲直流溅射制备五氧化二铌薄膜的方法: 一种脉冲直流溅射制备五氧化二铌薄膜的方法，包括如下步骤，提供基板，将基板先进行前处理，然后放入溅射腔室中；及提供靶材，将所述靶材放入溅射腔室中；以及在电源的作用下，采用脉冲直流溅射在基板上溅射制备五氧化二铌薄膜。根据本发...; 彭寿李刚王芸徐根保蒋继文金克武曹欣张宽翔杨勇姚婷婷; 文献传递

靶材刻蚀对磁控溅射制备ZnO:Al薄膜性能空间分布的影响: 2016年; 采用未经使用和经长时间使用后的新旧掺铝氧化锌(AZO)圆形平面陶瓷靶,直流磁控溅射制备AZO薄膜,基片分别正对靶材水平放置和立在屏蔽罩旁竖直放置,并通过X射线衍射仪、霍尔效应测试系统、光学椭偏仪等设备分析其结构和光电性能,系统地研究靶材刻蚀对磁控溅射制备AZO薄膜性能空间分布的影响。研究表明,氧负离子是造成靶材刻蚀导致薄膜性能空间差异的主要原因,对于水平放置径向分布的AZO薄膜,采用新靶制备时,靶材刻蚀位置处,氧负离子对薄膜损伤作用最大,(002)晶面间距增大,电学性能最差,而在正对靶中心及其他位置处电学性能较佳,随着靶材刻蚀的加深,氧负离子对正对靶中心位置处的薄膜损伤作用最大,结晶性能和电学性能最差;而对于竖直放置纵向分布的AZO薄膜,由于受氧负离子作用弱,采用新旧靶制备的薄膜性能分布规律相似,薄膜电学和结晶性能较水平放置均有所提升,某些位置处电阻率可达(7~8)×10^(-4)Ω·cm,但可见光透过率有所下降。; 彭寿张宽翔蒋继文杨勇姚婷婷曹欣李刚金克武徐根保王芸; 关键词：AZO薄膜氧负离子

直流磁控溅射功率对溅射生长GZO薄膜光电性能的影响被引量：2: 2017年; 本文采用直流磁控溅射沉积系统在玻璃基底上沉积镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,将溅射功率从120W调整到240W,步长为30W,研究功率变化对GZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明,溅射功率对GZO薄膜电阻率有显著的影响。溅射功率为210W时薄膜呈现最低电阻率为3.31×10^(-4)Ω·cm,可见光波段平均光学透光率接近84%。随着溅射功率的增加,薄膜表面形貌和生长形态发生较大变化,并直接得到具有一定凸凹不平的微结构,GZO薄膜的致密性先增加后降低。; 姚婷婷杨勇李刚仲召进张宽翔张宽翔蒋继文曹欣曹欣王芸王芸马立云; 关键词：溅射功率电学性能光学性能

一种消影导电玻璃: 本实用新型公开一种消影导电玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板上依次设有SiO2膜层、ITO膜层与高折射率膜层，所述高折射率膜层为Nb2O5膜层或TiO...; 李刚蒋继文金克武曹欣张宽翔杨勇姚婷婷王芸徐根保; 文献传递

具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法: 一种具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法，包括如下步骤：(1)采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对金属基片进行喷淋(2)清洗金属基片，后用高压N2吹干；(3)采用磁控溅射技术在所述金属基片表面微...; 彭寿杨勇王芸徐根保李刚曹欣姚婷婷蒋继文张宽翔金克武

防眩光玻璃的制备方法: 一种防眩光玻璃的制备方法，包括如下步骤：(a)在玻璃基底表面沉积一层ZnO薄膜；(b)采用低浓度的酸液或碱液刻蚀所述ZnO薄膜，以形成三维掩膜版；及(c)利用等离子体刻蚀已形成三维掩膜版ZnO薄膜的玻璃，得到具有凹凸结构...; 王芸张宽翔姚婷婷蒋继文金克武杨勇曹欣徐根保; 文献传递

氧气流量和溅射功率对脉冲直流磁控溅射制备Nb_2O_5薄膜性能的影响: 2016年; 采用非对称双极性脉冲直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了Nb_2O_5薄膜,重点研究了O_2流量和溅射功率对薄膜结构、成分、形貌和光学性能的影响。XRD结果表明:所有制备的薄膜均为非晶结构;XPS用于分析不同O_2流量下沉积的薄膜表面Nb的化学状态,O_2流量达到4.0 sccm以上才能得到满足化学计量比的Nb_2O_5薄膜;AFM结果显示:随着O_2流量的增加,薄膜表面更加平滑、均匀,而溅射功率为80 W时所制备的Nb_2O_5薄膜表现出最大的表面粗糙度大约为1.59 nm;光学结果表明,随着O_2流量增加,可见光区的平均光学透过率逐渐增大,但溅射功率超过40 W,溅射功率对薄膜可见光区的透过率影响很小;此外,通过改变O_2流量和溅射功率,可以很好地调节薄膜的折射率,从而更加便于消影玻璃中光学介质膜系的设计与生长。; 彭寿李刚蒋继文钟汝梅; 关键词：氧化铌溅射功率