姚婷婷
- 作品数：52 被引量：21H指数：2
- 供职机构：中国建材国际工程集团有限公司更多>>
- 发文基金：安徽省科技攻关计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信化学工程理学更多>>
- 一种具有微结构的多层膜透明导电玻璃制备方法
- 本发明公开一种具有微结构的多层膜透明导电玻璃制备方法，包括以下步骤：S1、在玻璃衬底表面室温下溅射生长下ZnO基薄膜；S2、采用线棒刮涂法，在下ZnO基薄膜表面制备单层离散分布的聚苯乙烯小球掩膜层；S3、采用射频磁控溅射...
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- 文献传递
- 直流磁控溅射功率对溅射生长GZO薄膜光电性能的影响被引量：2
- 2017年
- 本文采用直流磁控溅射沉积系统在玻璃基底上沉积镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,将溅射功率从120W调整到240W,步长为30W,研究功率变化对GZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明,溅射功率对GZO薄膜电阻率有显著的影响。溅射功率为210W时薄膜呈现最低电阻率为3.31×10^(-4)Ω·cm,可见光波段平均光学透光率接近84%。随着溅射功率的增加,薄膜表面形貌和生长形态发生较大变化,并直接得到具有一定凸凹不平的微结构,GZO薄膜的致密性先增加后降低。
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- 关键词：溅射功率电学性能光学性能
- 一种薄膜太阳能电池用光伏背板玻璃的制备方法
- 本发明公开一种薄膜太阳能电池用光伏背板玻璃的制备方法，包括以下步骤：选取高应变点玻璃作为玻璃基底，高应变点玻璃的应变点≥575℃、软化点≥800℃；通过磁控溅射，在玻璃基底顶面由下至上依次溅射生长80～120nm厚度的S...
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- 文献传递
- 退火条件对氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响
- 2019年
- 利用射频磁控溅射技术,在室温下用TiO2陶瓷靶在玻璃基底上制备N掺杂TiO2薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪和紫外可见光分光光度计研究了不同退火条件对薄膜的微观结构和光学性能的影响。实验结果表明:真空退火后的薄膜结晶性能均较差,随着退火温度的升高,薄膜表面的缺陷增加,薄膜内部的N含量均减少,禁带宽度从2.83eV增加到3.21eV;常压条件下退火,薄膜的结晶性变优,晶粒变大,薄膜内部N含量减少,禁带宽度增加到2.93eV。
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- 关键词：真空退火
- 一种微纳粒子乳液滴加制备层数可控胶体晶体的方法
- 本发明公开一种微纳粒子乳液滴加制备层数可控胶体晶体的方法，包括以下步骤：S1、确定所需制备胶体晶体的成膜面积S；S2、根据胶体晶体的成膜面积以及制备采用胶粒的直径，计算胶体晶体所需的胶粒小球数量及质量；S3、根据胶体晶体...
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- 具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法
- 一种具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法，包括如下步骤：(1)采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对金属基片进行喷淋(2)清洗金属基片，后用高压N<Sub>2</Sub>吹干；(3)采用磁控溅射技术在所述金属基片表面微...
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- 不同退火气氛对氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响
- 利用射频磁控溅射技术,在室温下用TiO陶瓷靶在玻璃基底上制备N掺杂TiO薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱分析仪和紫外可见光分光光度计研究了不同退火气氛对薄膜的微观结构和光学性能的影响。实验结果表明:...
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- 关键词：射频磁控溅射禁带宽度
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- 一种低辐射镀膜玻璃
- 本发明涉及一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板（1），自玻璃基板表面向外采用磁控溅射法依次沉积第一电介质层（2）、第一保护层（3）、低辐射功能膜层（4）、第二保护层（5）、第二电介质层（6）,其特征在于在第二电介质层上面制有...
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- W掺杂DLC薄膜的性能研究
- 以高纯C、高纯金属钨为实验靶材,利用共溅射法制备了一系列W掺杂DLC薄膜。利用相关检测仪器分别对薄膜结晶质量、薄膜成分、电学性能等进行了表征。结果表明:薄膜质量较高,生长状态较好,W元素已经成功掺入到DLC薄膜中,而且有...
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- 关键词：类金刚石薄膜碳化钨
- 文献传递
- 防眩光玻璃的制备方法
- 一种防眩光玻璃的制备方法，包括如下步骤：(a)在玻璃基底表面沉积一层ZnO薄膜；(b)采用低浓度的酸液或碱液刻蚀所述ZnO薄膜，以形成三维掩膜版；及(c)利用等离子体刻蚀已形成三维掩膜版ZnO薄膜的玻璃，得到具有凹凸结构...
- 王芸张宽翔姚婷婷蒋继文金克武杨勇曹欣徐根保
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