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黄有为

作品数：13 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
相关领域：文化科学自动化与计算机技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 13篇中文专利

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇文化科学

主题

  • 4篇污染
  • 4篇污染物
  • 4篇激光
  • 4篇光刻
  • 2篇导热
  • 2篇电子学
  • 2篇多路
  • 2篇多路复用
  • 2篇真空规
  • 2篇真空规管
  • 2篇通气孔
  • 2篇同步控制
  • 2篇同步控制器
  • 2篇能量转换
  • 2篇能量转换效率
  • 2篇气体
  • 2篇气体分析
  • 2篇气体分析器
  • 2篇气体分析装置
  • 2篇紫外

机构

  • 13篇中国科学院微...

作者

  • 13篇宗明成
  • 13篇黄有为
  • 8篇徐天伟
  • 7篇孙裕文
  • 5篇李世光
  • 4篇魏志国
  • 4篇马向红
  • 2篇盖洪峰
  • 2篇陈浩
  • 1篇王丹

年份

  • 2篇2016
  • 3篇2015
  • 4篇2014
  • 4篇2013
共 13 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种用于EUV真空环境中的电子学装置
本发明公开了一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；...
宗明成孙裕文徐天伟黄有为
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一种EUV光源污染物收集装置
本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置，应用于X射线或者EUV发光装置，其中，所述EUV发光装置包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，一喷嘴，其中，EUV光源污染物收集装置包括：一收集罩，收集罩位于真空腔内，用于在激光束...
宗明成孙裕文李世光黄有为
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一种气体分析装置及方法
本发明提供一种具有原位标定功能的气体分析装置。所述装置包括：取样室，与待测腔室通过第一阀门相连，用于引入待测腔室的样品气体；分析室，与取样室通过第二阀门相连，分析室上设有真空规管，用于监测分析室的真空度；气体分析器，设于...
宗明成徐天伟黄有为马向红魏志国
一种光谱椭偏测量装置及方法
本发明公开了一种光谱椭偏测量装置及方法，属于光学测量技术领域，本发明包括：光源，用于为膜层的厚度变化量的测量提供测量光束；光谱偏振消光器，用于接收测量光束，并输出含有第一厚度变化量的第一偏振消光光束和第二厚度变化量的第二...
宗明成黄有为徐天伟马向红
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一种集光系统防污染保护装置
本发明公开了一种集光系统防污染保护装置，用于一种集光系统中，所述集光系统包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，所述集光系统防污染保护装置包括：一供气管路，用于传输压力气体；至少一通气孔，位于所述供气管路上，用于喷射所述压力...
宗明成魏志国徐天伟孙裕文黄有为
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一种靶源预整形增强的极紫外光发生装置
本发明公开了一种靶源预整形增强的极紫外光发生装置，其中，所述极紫外光发生装置包括：真空腔，靶源发生器，靶源预整形增强器，高能发生器，能量注入器，极紫外光收集器，残余靶材收集器，其中，所述靶源预整形增强器包括：靶源运动轨迹...
宗明成黄有为陈浩李世光盖洪峰
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一种光谱椭偏测量装置及方法
本发明公开了一种光谱椭偏测量装置及方法，属于光学测量技术领域，本发明包括：光源，用于为膜层的厚度变化量的测量提供测量光束；光谱偏振消光器，用于接收测量光束，并输出含有第一厚度变化量的第一偏振消光光束和第二厚度变化量的第二...
宗明成黄有为徐天伟马向红
一种光学精密系统的对准装置
本发明公开了一种光学精密系统的对准装置，涉及精密仪器技术领域，其中，本发明通过在第一物体上设置第一对准标记，在第二物体上设置第二对准标记，利用照明系统给所述第一物体上的第一对准标记提供照明，利用成像系统将第一物体上的第一...
宗明成王丹黄有为李世光孙裕文
一种集光系统防污染保护装置
本发明公开了一种集光系统防污染保护装置，用于一种集光系统中，所述集光系统包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，所述集光系统防污染保护装置包括：一供气管路，用于传输压力气体；至少一通气孔，位于所述供气管路上，用于喷射所述压力...
宗明成魏志国徐天伟孙裕文黄有为
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一种用于EUV真空环境中的电子学装置
本发明公开了一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；...
宗明成孙裕文徐天伟黄有为
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