宗明成
- 作品数：53 被引量：24H指数：4
- 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：机械工程自动化与计算机技术理学电子电信更多>>
- 一种减振装置
- 本发明提供了一种减振装置，包括：壳体由上壳体、下壳体套接构成，背部具有多个通孔，壳体的前侧面顶部设置有多个安装孔，所述通孔与所述安装孔数量相同；弹簧卡块嵌设在所述安装孔内；三角弹簧组件，三角弹簧组件卡设在所述壳体内，其中...
- 齐威杨光华孟璐璐李璟宗明成齐月静王宇卢增雄陈进新苏佳妮张清洋
- 文献传递
- 基于空间分光的纳米级调焦调平测量技术被引量：10
- 2016年
- 随着半导体制造步入1xnm技术节点时代,调焦调平系统的测量精度达到几十纳米。在纳米尺度范围内,集成电路(IC)工艺对调焦调平测量精度的影响很大。提出一种基于光学三角法和叠栅条纹法的调焦调平测量技术,利用空间分光系统将两组位相差为π的叠栅条纹同时成像到两个探测器上,通过归一化差分的方法计算硅片高度,可有效降低调焦调平测量技术对IC工艺的敏感度,尤其是IC工艺导致的光强变化的敏感性。实验结果表明,该系统测量重复性精度为8nm(3σ),线性精度为18nm(3σ)。当测量光强变化达90%时,该测量技术引起的线性精度变化为15nm(3σ);当光强变化为65%时,线性精度变化小于1nm(3σ)。
- 孙裕文李世光宗明成
- 关键词：集成电路工艺
- 一种具有振动隔离嵌套结构的检测装置
- 本发明公开了一种具有振动隔离嵌套结构的检测装置，涉及光学性能参数检测技术领域，所述装置包括：微环境控制模块，所述微环境控制模块包括上层气浴单元和下层气浴单元，其中，所述上层气浴单元位于所述检测装置的上层，所述下层气浴单元...
- 齐威孟璐璐宗明成齐月静李璟王宇卢增雄杨光华张清洋苏佳妮陈进新
- 文献传递
- 一种图像自动对焦方法和设备
- 本发明涉及图像采集技术领域，尤其涉及一种图像自动对焦方法和设备。所述方法包括：获得第一图像，根据所述第一图像获得第一目标图像；根据所述第一目标图像获得第一显著区域图像；获得所述第一显著区域图像的最小外接矩形区域；将所述最...
- 韩邦强宗明成孟璐璐
- 文献传递
- 一种反射式样品形貌测量装置及方法
- 本发明提供了一种反射式样品形貌测量装置及方法。所述装置包括：顺次设置的照明组件、投影标记组件、投影光学组件、探测光学组件、探测标记组件、和数据采集组件；并在所述投影光学组件和所述探测光学组件之间的光路上设置待测样品。通过...
- 杨光华王丹齐月静宗明成李璟卢增雄孟璐璐折昌美
- 文献传递
- 调焦调平传感器增益系数工艺相关性研究被引量：2
- 2022年
- 针对先进光刻调焦调平传感器系统的增益系数工艺相关性开展理论仿真与实验研究。建立了增益系数工艺相关性理论模型,仿真分析了调焦调平传感器增益系数与测量误差随不同光刻工艺材料膜层厚度的变化规律。在自研实验系统上对表面涂覆不同厚度SiO_(2)薄膜的硅片样品进行了实验验证,发现实验与理论仿真得到的增益系数与测量误差随膜层厚度的变化规律一致。仿真与实验研究结果表明,调焦调平传感器的工艺相关性测量误差在SiO_(2)膜层厚度为250 nm和690 nm附近时分别出现约55.9 nm和36.6 nm的误差峰值。采用表面覆盖特定膜层的硅片来标定光刻机调焦调平传感器,可以有效减小增益系数工艺相关性的影响和测量误差。本研究结果对于光刻精密对焦控制、光刻工艺优化具有重要的参考意义。
- 孙生生王丹宗明成
- 关键词：增益系数
- 电子束硅片图形检测系统中的纳米级对焦控制技术被引量：1
- 2019年
- 带电粒子束成像检测技术是一种可以提供纳米级测量精度的技术,广泛应用于半导体检测中。在进行硅片检测时,要求待测硅片在扫描检测过程中一直处于电子束的焦深范围(DoF)内。本文提出一种毫米级控制范围、纳米级控制精度、高度测量时间在亚毫秒量级的粗精结合的闭环硅片高度控制技术。它的核心子系统是一套光学硅片高度测量系统,在进行粗控制时,数字相机的成像面作为一个光栅图像接收面,硅片的高度信息通过测量光栅线条在成像面上的位移获得。在接近目标高度时,数字相机的成像面作为一个虚拟的数字光栅使用。它与光学光栅图像存在一定周期差,两者构成类似机械游标卡尺的结构,本文称为光学游标卡尺,实验表明该技术可以在成像面上细分像素尺寸10×以上。当用其测量硅片高度时,粗测范围达毫米量级,粗测时间小于0. 38 ms,精测分辨率小于80 nm,精测时间小于0. 09 ms。利用该硅片高度测量系统进行硅片高度的初步闭环反馈控制,控制精度达到15 nm,在电子束硅片图形检测系统中具有广阔的应用前景。
- 郭杰李世光赵焱宗明成
- 关键词：焦深
- 用于光刻机调焦调平系统的光电探测器及其使用方法
- 一种用于光刻机调焦调平系统的光电探测器及其使用方法，光电探测器包括：光电转换模块，用于将光刻机调焦调平系统产生的测量光转换为多路模拟电信号；同步模数转换模块，用于分别将光电转换模块输出的多路模拟电信号转换为多路数字电信号...
- 龚士彬谢冬冬武志鹏马向红王丹宗明成
- 文献传递
- 一种光谱椭偏测量装置及方法
- 本发明公开了一种光谱椭偏测量装置及方法，属于光学测量技术领域，本发明包括：光源，用于为膜层的厚度变化量的测量提供测量光束；光谱偏振消光器，用于接收测量光束，并输出含有第一厚度变化量的第一偏振消光光束和第二厚度变化量的第二...
- 宗明成黄有为徐天伟马向红
- 文献传递
- 浸没式光刻机对焦控制技术研究被引量：5
- 2018年
- 随着大规模集成电路芯片制造步入十几纳米技术节点时代,光刻机的对焦控制变得越来越困难,其精度需要达到几十纳米。基于实际的光刻机对焦控制系统架构和光刻对焦原理,开展了浸没光刻对焦控制统计分析方法研究。根据系统结构分析出一系列误差源,研究了这些误差对总离焦误差的贡献方式及其与总离焦误差的关系。研究结果表明:由于光刻对焦误差中存在非正态分布的误差贡献项,常规正态统计分布使用的3_σ原则就无法满足99.7%的对焦成功率要求;在28,14,7nm技术节点集成电路芯片制造过程中,采用3_σ和4_σ原则得到的浸没光刻工艺总对焦成功率之差分别为28.4%、55.1%、62.9%。为了达到99.7%的对焦成功率,浸没式光刻机对焦控制应采用4_σ原则。
- 段晨宗明成范伟孟璐璐
- 关键词：光学设计集成电路
