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黄靖云

作品数:219 被引量:442H指数:11
供职机构:浙江大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学电气工程更多>>

文献类型

  • 120篇专利
  • 64篇期刊文章
  • 22篇会议论文
  • 10篇科技成果
  • 3篇学位论文

领域

  • 79篇电子电信
  • 23篇一般工业技术
  • 8篇理学
  • 6篇电气工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇文化科学
  • 1篇经济管理
  • 1篇化学工程
  • 1篇冶金工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 27篇纳米
  • 26篇二极管
  • 25篇发光
  • 23篇SUB
  • 21篇半导体
  • 21篇衬底
  • 20篇晶体薄膜
  • 20篇P型
  • 20篇ZNO
  • 17篇光电
  • 17篇传感
  • 16篇脉冲激光
  • 16篇脉冲激光沉积
  • 14篇欧姆接触
  • 14篇肖特基
  • 13篇化学气相
  • 13篇化学气相沉积
  • 13篇感器
  • 12篇肖特基二极管
  • 12篇发光二极管

机构

  • 213篇浙江大学
  • 4篇杭州大学
  • 2篇上海大学
  • 2篇山西铝厂
  • 2篇浙江大学温州...
  • 1篇复旦大学
  • 1篇堪萨斯州立大...
  • 1篇苏州大学
  • 1篇孝义铝矿

作者

  • 219篇黄靖云
  • 201篇叶志镇
  • 83篇赵炳辉
  • 31篇朱丽萍
  • 28篇汪雷
  • 27篇吕建国
  • 23篇潘新花
  • 21篇张银珠
  • 18篇何海平
  • 16篇卢焕明
  • 13篇徐伟中
  • 13篇袁国栋
  • 12篇王亚东
  • 12篇吕斌
  • 11篇曾昱嘉
  • 10篇李蓓
  • 9篇蔡斌
  • 9篇马德伟
  • 8篇丁萍
  • 8篇王晔

传媒

  • 18篇Journa...
  • 8篇真空科学与技...
  • 6篇材料科学与工...
  • 5篇第十三届全国...
  • 4篇材料科学与工...
  • 3篇材料导报
  • 3篇半导体光电
  • 3篇第十一届全国...
  • 2篇半导体情报
  • 2篇半导体技术
  • 2篇物理学报
  • 2篇科技导报
  • 2篇无机材料学报
  • 2篇浙江大学学报...
  • 2篇微纳电子技术
  • 2篇TFC’03...
  • 2篇第十一届全国...
  • 1篇电子学报
  • 1篇发光学报
  • 1篇半导体杂志

年份

  • 3篇2023
  • 3篇2022
  • 1篇2021
  • 4篇2020
  • 3篇2019
  • 4篇2018
  • 4篇2017
  • 4篇2016
  • 9篇2015
  • 9篇2014
  • 12篇2013
  • 13篇2012
  • 9篇2011
  • 7篇2010
  • 2篇2009
  • 6篇2008
  • 3篇2007
  • 10篇2006
  • 10篇2005
  • 22篇2004
219 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
采用金属镓层氮化技术在石英衬底上生长多晶GaN
2003年
随着多晶GaN材料发光研究的不断深入 ,大面积、价格低廉的多晶GaN基光电器件的研制已成为工业生产中一个重要的研究领域。石英玻璃以其自身特有的优势 ,成为生长多晶GaN材料的较为理想的衬底。本文采用一种新的金属镓层氮化技术 ,使用无定形石英作衬底 ,在常压下制备出多晶GaN。经分析测试表明 ,生长出的多晶GaN为六方结构且质量较好 。
邵庆辉叶志镇Nasser N.Morgan顾星黄靖云赵炳辉
关键词:金属GAN氮化镓半导体多晶材料
固体源化学气相沉积生长ZnO薄膜的方法
本发明提供的固体源化学气相沉积生长ZnO薄膜的方法包括以下步骤:将衬底置于气相沉积反应室中,加热至150~700℃;以Zn的固态金属有机物作为原材料,置于反应室的石英管中,在100~400℃下升华或蒸发,成气态,并在压强...
叶志镇吕建国陈汉鸿赵炳辉黄靖云
文献传递
氧压对PLD法硅上生长c轴取向LiNbO_3晶体薄膜的影响被引量:6
2003年
本文采用脉冲激光沉积 (PLD)法在Si衬底上生长c轴取向LiNbO3 (LN)晶体薄膜 ,研究氧气压强对薄膜质量的影响。结果表明 ,氧压是生长c轴择优取向LN薄膜的一个重要影响参数。X射线衍射和透射电子显微镜分析表明 ,氧压为 30Pa时生长得到了完全c轴取向的LN薄膜 ,LN(0 0 6 )衍射峰的半高宽为 0 2 1°。
王新昌叶志镇何军辉黄靖云顾星卢焕明赵炳辉
关键词:PLD法硅衬底C轴取向薄膜生长脉冲激光沉积
一种p型CuMSnO非晶氧化物半导体薄膜及其制备方法
本发明公开了一种p型CuMSnO非晶氧化物半导体薄膜,其中M为III族元素B、Al、Ga、In、Sc、Y。其中:Cu与Sn共同作为材料的基体元素,Cu为+1价,Sn为+2价,二者与O结合形成材料的p型导电特性;M为+3价...
吕建国于根源黄靖云叶志镇
文献传递
Bi<Sub>3</Sub>Ti<Sub>2</Sub>O<Sub>8</Sub>F光催化剂/吸附剂的制备方法
本发明提供一种光催化剂/吸附剂Bi<Sub>3</Sub>Ti<Sub>2</Sub>O<Sub>8</Sub>F的制备方法,包括以下步骤:将钛源溶于去离子水或乙酸溶液,得钛源溶液;向钛源溶液中加入Bi(NO<Sub>3...
黄靖云王威叶志镇
文献传递
UHV/CVD生长锗硅材料的偏析现象被引量:2
2004年
本文对利用超高真空CVD方法生长的Si1 -xGex 合金外延层中的锗表面分布情况和Ge在界面偏析现象进行了深入的研究。通过XPS和SIMS图谱的研究 ,指出表面由于锗的偏析 ,造成锗在体内和表面的含量不同 ,在低温时生长锗硅合金 ,表面氢原子的吸附可有效地抑制锗的偏析 ,但随着温度的升高 。
吴贵斌崔继锋黄靖云叶志镇
关键词:锗硅合金X射线光电子谱
生长氧化锌半导体薄膜的金属有机化合物汽相沉积装置
本发明的生长氧化锌半导体薄膜的金属有机化合物汽相沉积装置,包括生长室、进样室、连接生长室和进样室的活动闸板及用于活化裂化氮源气体的原子发生器,原子发生器的出气管置入生长室内,生长室采用水冷结构,具有双层壁,夹层充冷却水冷...
叶志镇徐伟中赵炳辉朱丽萍黄靖云
文献传递
退火对Zn<,1-x>Cd<,x>O薄膜结晶质量的影响
研究了退火对溅射沉积Zn<,1-x>Cd<,x>O薄膜(0≤x≤1.0)薄膜结晶质量的影响.结果发现:500℃下退火的薄膜具有最高的XRD衍射强度,但Cd组分含量较高(x≥0.6)的薄膜易发生CdO晶相的再蒸发现象.退火...
马德伟叶志镇黄靖云赵炳辉朱丽萍
关键词:退火溅射沉积
文献传递
直流反应磁控溅射Zn_(1-x)Cd)_xO薄膜的研究被引量:4
2003年
用直流反应磁控溅射法在n Si(111)和玻璃衬底上生长高度择优取向的Zn1-xCdxO合金晶体薄膜 ,最佳生长温度为 45 0℃ (x=0 2 ) .当x≤ 0 6时 ,Zn1-xCdxO薄膜具有纯ZnO的六角结构 ,x =0 8时 ,薄膜是由ZnO六角结构晶体和CdO立方结构晶体组成的混合物 .透射光谱测试表明 ,通过改变合金薄膜中Cd的含量 ,可以调节Zn1-x CdxO薄膜的禁带宽度 .
马德伟叶志镇黄靖云赵炳辉
关键词:磁控溅射禁带宽度
AB_5型贮氢合金及其优化设计被引量:28
2001年
AB5型贮氢合金的性能主要取决于其成分、结构和显微组织。本文从AB5型贮氢合金的晶体结构出发 ,详细讨论了AB5型贮氢合金在诸多方面的优化措施 :(1)化学成分上 ,向多元合金化发展 ,降低合金的成本 ,改善合金性能 ;(2 )结构上 ,偏离AB5结构 ,发展非化学计量比合金 ;(3)显微组织上 ,从主相向“主相 +辅相”发展 ;(4 )工艺上 ,开发新的合金制备、热处理和表面改性等工艺方法 ;(5 )改善合金使用环境 ;(6 )研究方法上理论化、系统化。通过这些途径 ,可以对AB5型贮氢合金进行深入研究 ,进一步提高合金的性能。
吕建国黄靖云叶志镇
关键词:AB5型贮氢合金晶体结构优化设计
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