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叶志镇

作品数:709 被引量:1,144H指数:18
供职机构:浙江大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学电气工程更多>>

文献类型

  • 388篇专利
  • 220篇期刊文章
  • 85篇会议论文
  • 14篇科技成果
  • 2篇学位论文

领域

  • 221篇电子电信
  • 76篇一般工业技术
  • 68篇理学
  • 13篇电气工程
  • 10篇化学工程
  • 6篇文化科学
  • 4篇机械工程
  • 4篇轻工技术与工...
  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇自然科学总论
  • 1篇经济管理
  • 1篇哲学宗教
  • 1篇建筑科学
  • 1篇水利工程
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 107篇纳米
  • 86篇脉冲激光
  • 85篇脉冲激光沉积
  • 81篇ZNO
  • 80篇衬底
  • 71篇P型
  • 69篇发光
  • 68篇溅射
  • 64篇磁控
  • 61篇磁控溅射
  • 60篇光电
  • 60篇半导体
  • 57篇脉冲激光沉积...
  • 55篇P型ZNO
  • 51篇ZNO薄膜
  • 50篇晶体薄膜
  • 47篇二极管
  • 43篇掺杂
  • 39篇非晶
  • 32篇化学气相

机构

  • 707篇浙江大学
  • 3篇杭州电子科技...
  • 3篇上饶师范学院
  • 3篇浙江大学温州...
  • 2篇宝鸡文理学院
  • 2篇郑州大学
  • 2篇浙江工业大学
  • 2篇麻省理工学院
  • 2篇浙江省电力职...
  • 2篇亚洲大学
  • 2篇浙江佳博科技...
  • 1篇长沙理工大学
  • 1篇复旦大学
  • 1篇北京大学
  • 1篇堪萨斯州立大...
  • 1篇金日成综合大...
  • 1篇山东大学
  • 1篇扬州大学
  • 1篇上海市计量测...

作者

  • 709篇叶志镇
  • 201篇黄靖云
  • 195篇赵炳辉
  • 146篇吕建国
  • 123篇朱丽萍
  • 76篇潘新花
  • 71篇何海平
  • 47篇张银珠
  • 42篇吕斌
  • 41篇汪雷
  • 39篇曾昱嘉
  • 32篇卢洋藩
  • 29篇吴贵斌
  • 22篇徐伟中
  • 21篇刘国军
  • 21篇陈凌翔
  • 20篇顾修全
  • 20篇赵星
  • 19篇金一政
  • 18篇江庆军

传媒

  • 42篇Journa...
  • 26篇材料科学与工...
  • 17篇真空科学与技...
  • 14篇材料科学与工...
  • 13篇真空科学与技...
  • 12篇第五届届全国...
  • 11篇材料导报
  • 10篇第十四届全国...
  • 9篇无机材料学报
  • 8篇物理学报
  • 7篇发光学报
  • 7篇半导体光电
  • 6篇第十三届全国...
  • 5篇半导体情报
  • 5篇浙江大学学报...
  • 5篇浙江大学学报...
  • 5篇第十三届全国...
  • 4篇微纳电子技术
  • 4篇第七届全国固...
  • 4篇TFC’03...

年份

  • 1篇2024
  • 8篇2023
  • 11篇2022
  • 8篇2021
  • 25篇2020
  • 18篇2019
  • 18篇2018
  • 23篇2017
  • 20篇2016
  • 25篇2015
  • 28篇2014
  • 33篇2013
  • 35篇2012
  • 52篇2011
  • 30篇2010
  • 23篇2009
  • 34篇2008
  • 37篇2007
  • 46篇2006
  • 33篇2005
709 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
n型Zn<Sub>1-x</Sub>Mg<Sub>x</Sub>O晶体薄膜及其制备方法
本发明的n型Zn<Sub>1-x</Sub>Mg<Sub>x</Sub>O晶体薄膜,其n型掺杂剂的掺杂浓度为10<Sup>15</Sup>~10<Sup>21</Sup>cm<Sup>-3</Sup>,载流子浓度为10<...
黄靖云叶志镇张银珠赵炳辉
文献传递
直流反应磁控溅射氧化物光学薄膜及其性能研究
1989年
本文报道了应用直流反应磁控溅射技术淀积透明的TiO 2、Ta_2O_5、ZnO、Al_2O_3等氧化物光学薄膜。研究了这些氧化物薄膜的光学和机械等性能;讨论了反应溅射的SiO_x薄膜其光学吸收的反应动力学原因;摸索了TiO_2薄膜的性能与溅射镀膜条件的关系;研究了TiO_2薄膜的晶相结构;观察了TiO_2和ZnO薄膜的表面微观形貌。
叶志镇唐晋发
关键词:磁控溅射光学薄膜氧化物
一种二维非晶氧化物半导体与薄膜晶体管及其制备方法
本发明公开了一种二维非晶氧化物半导体与薄膜晶体管及其制备方法,所述的二维非晶氧化物半导体厚度为1.0~3.1 nm,室温禁带宽度3.86~5.12 eV,具有明显的量子约束效应,同时表现出二维特性和非晶态结构。在二维非晶...
吕建国岳士录陆波静叶志镇
文献传递
自组装InGaN/GaN量子点的研究进展被引量:2
2002年
GaN基量子点的生长及其特性已成为目前Ⅲ Ⅴ族半导体研究的热点。由于其较强的量子效应 ,量子点结构的光电器件有望获得比量子阱器件更优异的性能。总结了InGaN/GaN量子点的最新研究进展 ,从生长模式、发光特性和制造工艺三个方面对InGaN/GaN量子点做了较详细的介绍 。
李嘉炜叶志镇Nasser N M
关键词:INGAN量子点发光特性
一种自驱动全固态葡萄糖生物传感器及其制备方法
本发明涉及一种自驱动全固态葡萄糖生物传感器及其制备方法本发明实现了自驱动的葡萄糖浓度探测,在光照和无光照条件下,都能对葡萄糖浓度进行探测,线性探测范围高达2~40mM,能够满足正常人体(3.61~6.11mM)和糖尿病患...
黄靖云蔡斌叶志镇
文献传递
Li-N-H共掺法制备p型ZnO薄膜被引量:8
2006年
采用Li-N-H共掺技术在玻璃衬底上生长p型ZnO薄膜.XRD结果表明共掺ZnO薄膜具有高度c轴取向,Hall测试表明薄膜的电阻率为25.2Ω·cm,Hall迁移率为0.5cm^2/(V·s),空穴浓度为4.92×10^(17)/cm^3.此外,p-ZnO薄膜在可见光区域具有90%的高透射率.
卢洋藩叶志镇曾昱嘉陈兰兰朱丽萍赵炳辉
关键词:磁控溅射共掺
UHV-CVD生长的SiGe多量子阱在热光电池领域的应用被引量:1
2005年
为了验证SiGe多量子阱的能带向直接带隙结构转变[1]和进一步探索其在热光电池领域的应用,采用先进的超高真空化学气相沉积系统生长出高质量的SiGe多量子阱外延层,并对其进行多次反射红外线吸收谱的测量.测量结果说明吸收峰接近黑体辐射峰1450nm波长,跃迁几率有所增加,这将大幅度提高热光电池的吸收效率,同时也为SiGe多量子阱中量子效应的存在提供了实验依据.
孙伟峰叶志镇朱丽萍赵炳辉
关键词:多量子阱黑体辐射
一种非极性ZnO晶体薄膜的生长方法
本发明的非极性ZnO晶体薄膜的生长方法,采用的是脉冲激光沉积,首先称量ZnO、MnO<Sub>2</Sub>、Na<Sub>2</Sub>CO<Sub>3</Sub>粉末,经球磨、压制、烧结,制得Mn-Na共掺的陶瓷靶;...
叶志镇张利强吕建国何海平朱丽萍张银珠
文献传递
Na掺杂生长p型ZnO晶体薄膜的方法
本发明公开的Na掺杂生长p型ZnO晶体薄膜的方法,采用的是脉冲激光沉积法,首先将纯氧化锌和碳酸钠粉末球磨混合后压制成型,烧结,制得掺Na<Sub>2</Sub>O的ZnO靶材;然后在脉冲激光沉积装置的生长室中,以掺Na<...
叶志镇林时胜曾昱嘉赵炳辉陈凌翔顾修全
文献传递
MOCVD生长GaN材料p型掺杂最新进展被引量:2
2004年
p型GaN薄膜的实现是发展光电器件的关键工艺。使用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法已经获得实用性的p型掺杂,但是其电学和光学特性都不能让人满意。最近几年在掺杂工艺的改进和掺杂模型的理论研究方面都取得了显著进展。介绍了p型掺杂GaN中的自补偿模型、共掺杂工艺的原理和进展、PL谱的性质以及一些新的掺杂工艺。
赵浙叶志镇
关键词:MOCVDP型掺杂光电器件
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