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张宽翔

作品数:14 被引量:16H指数:2
供职机构:蚌埠玻璃工业设计研究院更多>>
发文基金:安徽省科技攻关计划更多>>
相关领域:一般工业技术理学化学工程更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 5篇专利
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 7篇一般工业技术
  • 2篇化学工程
  • 2篇理学

主题

  • 5篇氧化钛
  • 5篇二氧化钛
  • 4篇水性
  • 4篇亲水性
  • 4篇溅射
  • 4篇磁控
  • 3篇光催化
  • 3篇光催化性
  • 3篇光催化性能
  • 3篇磁控溅射
  • 3篇催化
  • 3篇催化性
  • 2篇导电
  • 2篇导电玻璃
  • 2篇油性
  • 2篇折射率
  • 2篇直流磁控
  • 2篇紫外
  • 2篇紫外光
  • 2篇紫外光照射

机构

  • 8篇合肥工业大学
  • 6篇蚌埠玻璃工业...
  • 1篇大连交通大学
  • 1篇蚌埠市第二中...

作者

  • 14篇张宽翔
  • 7篇方应翠
  • 6篇曹欣
  • 6篇姚婷婷
  • 5篇徐根保
  • 5篇王芸
  • 5篇蒋继文
  • 5篇李刚
  • 5篇王文
  • 4篇彭寿
  • 4篇洪流
  • 3篇杨勇
  • 2篇何金俊
  • 2篇张冰
  • 2篇杨勇
  • 1篇马立云
  • 1篇仲召进
  • 1篇赵建华

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇真空
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇中国真空学会...

年份

  • 2篇2017
  • 4篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 4篇2012
  • 1篇2011
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
二氧化钛薄膜亲水性恢复研究被引量:2
2012年
新制备的锐钛矿TiO2薄膜具有超亲水性,在使用和储存过程中超亲水性会降低。本文探究恢复亲水性的方法,采用热处理、等离子体辐照、紫外光照射等技术恢复锐钛矿TiO2薄膜亲水性,三种方法均能够有效地恢复薄膜表面的亲水性。热处理及紫外光照射操作简单而经过等离子体辐照的薄膜能保持更长时间的可见光致亲水性。
王文张宽翔赵建华方应翠
关键词:TIO2薄膜亲水性紫外光照射
紫外光诱导二氧化钛薄膜亲水性和亲油性探讨
很多文献报道二氧化钛薄膜具有紫外光致亲水和亲油性,我们用直流磁控溅射及后续热处理方法制备锐钛矿二氧化钛薄膜,通过对比辐照前滴水或滴油及滴水或滴油后再辐照导致的亲水直径和亲油直径随辐照时间的变化,研究辐照方式和辐照时间对薄...
张宽翔洪流王文方应翠
一种增强纳米银薄膜光催化性能的方法
本发明公开了一种增强纳米银薄膜光催化性能的方法,其特征在于:通过氧等离子体辐照纳米银薄膜。本发明通过氧等离子体辐照增强了纳米银薄膜光催化性能,方法简单、易于实现,拓展了纳米银薄膜在水质净化处理方面的应用。
方应翠洪流张冰张宽翔何金俊
文献传递
直流磁控溅射工艺对ITO薄膜光电性能的影响被引量:11
2016年
采用直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、分光光度计、Hall效应测试系统研究了热退火与原位生长、衬底温度、直流溅射功率对薄膜结构、表面形貌以及光电性能的影响。结果表明:与室温生长并经410℃热退火后的薄膜相比,410℃原位生长可获得光电性能更好的薄膜;随着衬底温度的增加,电阻率单调减小,光学吸收边出现蓝移;在溅射功率为85 W时薄膜的光电性能达到最佳。在衬底温度为580℃、溅射功率为85 W的工艺条件下,可制备出电阻率为1.4×10^(–4)?·cm、可见光范围内平均透过率为93%的光电性能优异的ITO薄膜。
彭寿蒋继文李刚张宽翔杨勇姚婷婷金克武曹欣徐根保王芸
关键词:直流磁控溅射氧化铟锡薄膜衬底温度溅射功率
靶材刻蚀对磁控溅射制备ZnO:Al薄膜性能空间分布的影响
2016年
采用未经使用和经长时间使用后的新旧掺铝氧化锌(AZO)圆形平面陶瓷靶,直流磁控溅射制备AZO薄膜,基片分别正对靶材水平放置和立在屏蔽罩旁竖直放置,并通过X射线衍射仪、霍尔效应测试系统、光学椭偏仪等设备分析其结构和光电性能,系统地研究靶材刻蚀对磁控溅射制备AZO薄膜性能空间分布的影响。研究表明,氧负离子是造成靶材刻蚀导致薄膜性能空间差异的主要原因,对于水平放置径向分布的AZO薄膜,采用新靶制备时,靶材刻蚀位置处,氧负离子对薄膜损伤作用最大,(002)晶面间距增大,电学性能最差,而在正对靶中心及其他位置处电学性能较佳,随着靶材刻蚀的加深,氧负离子对正对靶中心位置处的薄膜损伤作用最大,结晶性能和电学性能最差;而对于竖直放置纵向分布的AZO薄膜,由于受氧负离子作用弱,采用新旧靶制备的薄膜性能分布规律相似,薄膜电学和结晶性能较水平放置均有所提升,某些位置处电阻率可达(7~8)×10^(-4)Ω·cm,但可见光透过率有所下降。
彭寿张宽翔蒋继文杨勇姚婷婷曹欣李刚金克武徐根保王芸
关键词:AZO薄膜氧负离子
直流磁控溅射功率对溅射生长GZO薄膜光电性能的影响被引量:2
2017年
本文采用直流磁控溅射沉积系统在玻璃基底上沉积镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,将溅射功率从120W调整到240W,步长为30W,研究功率变化对GZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明,溅射功率对GZO薄膜电阻率有显著的影响。溅射功率为210W时薄膜呈现最低电阻率为3.31×10^(-4)Ω·cm,可见光波段平均光学透光率接近84%。随着溅射功率的增加,薄膜表面形貌和生长形态发生较大变化,并直接得到具有一定凸凹不平的微结构,GZO薄膜的致密性先增加后降低。
姚婷婷杨勇李刚仲召进张宽翔张宽翔蒋继文曹欣曹欣王芸王芸马立云
关键词:溅射功率电学性能光学性能
一种消影导电玻璃
本实用新型公开一种消影导电玻璃,包括玻璃基板,玻璃基板上依次设有SiO<Sub>2</Sub>膜层、ITO膜层与高折射率膜层,所述高折射率膜层为Nb<Sub>2</Sub>O<Sub>5</Sub>膜层或TiO<Sub>...
李刚蒋继文金克武曹欣张宽翔杨勇姚婷婷王芸徐根保
文献传递
低温磁控溅射制备AZO薄膜及绒面研究被引量:1
2017年
采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝(AZO,2%Al_2O_3,质量分数)陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5%的HCl溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备重点研究工作压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜的晶相结构、表面形貌、光电性能以及后期制绒的影响。研究表明,直流射频耦合磁控溅射可以在低温下制备性能优异的AZO薄膜,且随着工作压强的减小,致密性增强,光电性能改善,后期刻蚀得到具有良好陷光作用的绒面结构。在工作压强0.5 Pa下,低温制备的AZO薄膜电阻率达到3.55×10^(-4)Ω·cm,薄膜可见光透过达到88.36%,刻蚀后电阻率为4.19×10^(-4)Ω·cm,可见光透过率89.59%,雾度达24.7%。
张宽翔彭寿姚婷婷曹欣金克武徐根保
关键词:AZO薄膜绒面
一种增强纳米银薄膜光催化性能的方法
本发明公开了一种增强纳米银薄膜光催化性能的方法,其特征在于:通过氧等离子体辐照纳米银薄膜。本发明通过氧等离子体辐照增强了纳米银薄膜光催化性能,方法简单、易于实现,拓展了纳米银薄膜在水质净化处理方面的应用。
方应翠洪流张冰张宽翔何金俊
文献传递
纳米二氧化钛亲水性及纳米银二氧化钛复合膜光催化性能研究
二氧化钛薄膜具有光催化和光致亲水性两种优越的性质,然而在实际中受到激发波长范围窄,太阳光利用率低的限制,无法大规模应用。本文采用等离子体处理和银掺杂来分别提高TiO2的亲水性和光催化性,并积极探讨其中的改性机理。   ...
张宽翔
关键词:纳米二氧化钛纳米银等离子体处理复合膜光催化性能
共2页<12>
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