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孔洁莹
作品数:
1
被引量:1
H指数:1
供职机构:
南京大学
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张勇
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MOCVD制备InN薄膜的光学性质
被引量:1
2007年
利用吸收光谱、光致发光谱、喇曼散射光谱和椭圆偏振光谱一系列光学手段,对采用金属有机物气相沉积法(MOCVD)制备的InN薄膜的光学性质进行了系统研究.吸收光谱和光致发光谱的结果清晰地证明了高质量InN薄膜的光学带隙宽度为0.68eV,接近于现阶段主要报道值0.7eV.喇曼散射光谱实验说明窄光学带隙主要源于较低的背景电子浓度.利用椭圆偏振光谱不仅得到了纤锌矿InN临界点跃迁能量的值E0,同时首次得到了在0.65~4.0eV能量范围内复折射率实部n,虚部k的色散曲线.
孔洁莹
张荣
刘斌
谢自力
张勇
修向前
郑有炓
关键词:
氮化铟
吸收光谱
光致发光谱
椭圆偏振光谱
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