2024年11月29日
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刘文
作品数:
54
被引量:16
H指数:2
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北京大学
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发文基金:
国家自然科学基金
北京市科技新星计划
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相关领域:
环境科学与工程
电子电信
自动化与计算机技术
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合作作者
黄如
北京大学信息科学技术学院微电子...
黄德涛
北京大学
王思浩
北京大学深圳研究生院集成微系统...
刘文
北京大学环境科学与工程学院水沙...
郝志华
北京大学
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作者
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刘文
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黄如
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王思浩
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王健
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刘文
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1994
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一种新型源漏结构的抗辐照SOI器件及制备方法
本发明公开了一种新型源漏结构的抗辐照SOI器件,包括衬底硅层,埋氧化层、有源区硅层、栅氧化层及隔离氧化层,所述有源区硅层上形成源区、漏区和沟道区,其特征在于,所述源区或者漏区与埋氧化层之间有一层与源区或者漏区掺杂类型相反...
黄如
黄德涛
刘文
王健
抗NMOS器件总剂量辐照的新型集成电路
本发明公开了一种抗NMOS器件总剂量辐照的新型集成电路,属于电子技术领域。本发明抗NMOS器件总剂量辐照的集成电路包括NMOS器件,也可包括PMOS器件,所述器件之间通过衬底上的沟槽隔离,沟槽中填充有沟槽填充材料,其特征...
刘文
黄如
王思浩
黄德涛
王健
深亚微米NMOS器件总剂量辐照引起的寄生管泄漏电流模型
本文提出了一个深亚微米尺度下总剂量辐照引起的NMOS器件寄生管泄漏电流模型,该模型将辐照对MOS器件的影响直接体现为寄生管阈值漂移与辐照剂量之间的依赖关系,避免了对STI区大量固定正电荷的空间分布做复杂计算。我们还首次分...
刘文
王思浩
黄如
关键词:
总剂量辐照
文献传递
抗NMOS器件总剂量辐照的新型集成电路
本发明公开了一种抗NMOS器件总剂量辐照的新型集成电路,属于电子技术领域。本发明抗NMOS器件总剂量辐照的集成电路包括NMOS器件,也可包括PMOS器件,所述器件之间通过衬底上的沟槽隔离,其特征在于,在和所述NMOS器件...
刘文
黄如
文献传递
一种新型抗NMOS器件总剂量辐照的集成电路
本发明公开了一种新型抗NMOS器件总剂量辐照的集成电路,属于电子技术领域。本发明抗NMOS器件总剂量辐照的集成电路包括NMOS器件,也可包括PMOS器件,所述器件之间通过衬底上的沟槽隔离,其特征在于,在和所述NMOS器件...
刘文
黄如
文献传递
一种新型的抗总剂量辐照的CMOS集成电路
本发明公开了一种新型的抗总剂量辐照的CMOS集成电路,属于电子技术领域。本发明CMOS集成电路包括NMOS器件和PMOS器件,器件之间通过沟槽隔离,PMOS和PMOS之间的沟槽用隔离材料一填充,所述隔离材料一在总剂量辐照...
刘文
黄如
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Pb(Ⅱ)、Cd(Ⅱ)、Cu(Ⅱ)、Cr(Ⅲ)在钛酸纳米管上的竞争吸附行为
重金属污染是一个全球普遍存在的环境问题,钛酸纳米管作为一种性能优异的吸附材料,在水体重金属污染控制领域有很大的应用前景.本研究通过水热法合成了钛酸纳米管,其具有较低的等电点(2.6)和较大的比表面积(262.05 m2/...
刘文
王彦骐
殷晓晨
李学钊
倪晋仁
关键词:
河流污染
重金属离子
钛酸纳米管
中国水体颗粒物数据库的研制
刘文
一类用于协同去除水中重金属与新有机污染物的可再生吸附剂的制备与应用方法
本发明公开了一种用于协同去除水中新兴有机污染物与重金属的可再生吸附剂的制备方法与应用,属于水处理技术领域。本发明中的复合材料为一系列金属有机骨架材料衍生的多孔道碳材料和纳米钛酸盐材料的均相复合物,经水热法合成,并可在此基...
刘文
李璠
孙丰宾
陈龙
张惠璇
李沛珅
一种抗总剂量辐照的SOI器件及其制造方法
本发明公开了一种抗总剂量辐照的SOI器件及其制造方法,属于电子技术领域。本发明的SOI器件包括衬底层,埋氧层和顶层,所述埋氧层中包括和衬底层材料相同的牺牲层,所述埋氧层在所述牺牲层中产生固定负电荷。所述衬底层和牺牲层的材...
刘文
郝志华
黄如
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