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王振

作品数:7 被引量:20H指数:3
供职机构:重庆光电技术研究所更多>>
发文基金:重庆市科技攻关计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 7篇电子电信

主题

  • 3篇ALN
  • 3篇MOCVD
  • 2篇探测器
  • 2篇蓝宝
  • 2篇蓝宝石
  • 2篇蓝宝石衬底
  • 2篇高温
  • 2篇P型
  • 2篇P型GAN
  • 2篇ALGAN
  • 2篇MOCVD生...
  • 2篇衬底
  • 1篇低压
  • 1篇电光
  • 1篇电光调制
  • 1篇电光调制器
  • 1篇调制器
  • 1篇外延层
  • 1篇微波光子
  • 1篇微波光子学

机构

  • 5篇重庆光电技术...
  • 3篇电子科技大学
  • 2篇中国电子科技...
  • 1篇中国国防科技...

作者

  • 7篇王振
  • 5篇刘挺
  • 5篇赵红
  • 5篇赵文伯
  • 5篇邹泽亚
  • 3篇罗木昌
  • 3篇杨晓波
  • 3篇廖秀英
  • 2篇杨谟华
  • 2篇刘万清
  • 2篇周勇
  • 1篇段成丽
  • 1篇廖柯
  • 1篇周勋
  • 1篇瞿鹏飞

传媒

  • 4篇半导体光电
  • 3篇Journa...

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2013
  • 2篇2008
  • 3篇2007
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
高温AlN为模板的AlGaN基p-i-n背照式日光盲探测器(英文)
2008年
第一次报道了以高温AlN为模板层的AlGaN基p-i-n背照式日光盲探测器的制作和器件特性.利用MOCVD方法在(0001)面的蓝宝石衬底上生长了探测器的AlxGa1-xN多层外延材料.在无需核化层的高温AlN模板上生长了p-i-n背照式日光盲探测器的无裂纹高Al组分(0.7)AlGaN多层外延结构.利用在线反射监测仪、三轴X射线衍射及原子力显微镜表征了外延材料的晶体质量.在1.8V的反向偏压下,制作的探测器表现出了日光盲响应特性,在270nm处最大响应度为0.0864A/W.具有约3.5V的正向开启电压,大于20V的反向击穿电压,在2V的反向偏压下暗电流小于20pA.
邹泽亚杨谟华刘挺赵文伯赵红罗木昌王振
关键词:P-I-N
异质集成微波光子器件发展现状被引量:3
2018年
微波光子学利用光子技术实现微波信号的产生、传输、处理及控制,可突破传统微波技术在带宽、传输损耗和抗电磁干扰等方面的瓶颈,提升雷达、电子战等信息系统的综合性能。激光器、电光调制器和光电探测器是微波光子技术中的三种核心光电子器件,其性能对微波光子链路的噪声和动态等指标具有决定性的影响,但基于分立器件的微波光子系统体积、重量较大,难以满足雷达、电子战等系统的阵列化需求,硅基异质集成技术以及高密度低损耗片上光传输互连技术是解决有源器件集成和无源器件集成的关键技术。文章介绍了用于微波光子的硅基激光器、电光调制器、光电探测器和波导的异质集成技术的发展现状,并探讨了集成微波光子技术的发展趋势。
王振廖柯瞿鹏飞
关键词:微波光子学激光器电光调制器光电探测器波导
高温AlN模板上p型GaN的生长研究
2008年
利用低压金属有机物化学气相沉积技术,采用均匀掺杂和渐变Mg-δ掺杂方法,分别在氮化镓(GaN)和高温氮化铝(HT-AlN)模板上,生长了p型GaN外延材料.生长后,双晶X射线衍射和霍尔测试结果表明:HT-AlN模板上采用渐变Mg-δ掺杂方法生长的p型GaN材料,具有最好的晶体质量和电学性能.该p型GaN样品的(0002)面半峰宽值小至178″,其空穴氧浓度为5.78×1017cm-3.在对Cp2Mg/TMGa进行了优化试验后,p型GaN的空穴氧浓度被提高到8.03×1017cm-3.
刘挺邹泽亚王振赵红赵文伯罗木昌周勋杨晓波廖秀英
关键词:金属有机物化学气相沉积P型GAN
超辐射发光二极管的研究进展被引量:9
2013年
超辐射发光二极管(SLD)是一种宽光谱光源,广泛用于光纤陀螺、光学相干断层扫描等领域。高性能SLD要求同时实现大功率和宽光谱输出,航天领域相关应用还要求其具有较高的抗辐射性能。本文从如何实现大功率、宽光谱输出和抗辐射加固等几方面介绍了SLD的研究进展,并对其未来的研究方向进行了展望。
段成丽王振
关键词:超辐射发光二极管量子点大功率宽光谱抗辐射
蓝宝石衬底上原子级光滑AlN外延层的MOCVD生长被引量:6
2007年
在蓝宝石衬底表面无氮化、低Ⅴ/Ⅲ比的情况下,采用1200℃的衬底温度、5kPa反应室气压,用MOCVD方法在蓝宝石衬底上生长出了表面原子级光滑的AlN外延层.原子力显微镜测试表明其平均粗糙度为0.44nm,X射线衍射(0002)回摆曲线FWHM为166″.实验结果和分析表明,极性和气相反应是影响AlN表面形貌的主要原因.以原子级光滑的AlN为模板生长出了高质量的高Al组分的n型AlGaN,证实了AlN模板具有较好的质量.
赵红邹泽亚赵文伯刘挺杨晓波廖秀英王振周勇刘万清
关键词:MOCVDALN
p型GaN的渐变δ掺杂研究被引量:2
2007年
采用MOCVD技术及渐变-δMg掺杂方法生长了p型GaN薄膜,对样品进行了两步退火处理以对Mg进行激活。通过Hall测试发现,经过950℃下的第一次退火后,样品空穴浓度为1.64×1016cm-3,电阻率为77.9Ω.cm。经过750℃下的第二次退火后,样品的空穴浓度增大了10倍,电阻率减小为原来的1/20。分析认为,渐变δ掺杂减小了Mg的自补偿效应,两步退火提高了Mg的激活效率,从而显著提高了样品的空穴浓度和降低了电阻率。实验还发现,经过750℃下15 min的第二次退火后得到的样品的空穴浓度最大,达5.13×1017cm-3。
邹泽亚刘挺王振赵红赵文伯罗木昌杨谟华
关键词:P型GANMOCVD
蓝宝石衬底上AlGaN外延材料的低压MOCVD生长被引量:1
2007年
采用低温AlN成核层在1180℃温度下在(0001)蓝宝石衬底上用低压MOCVD设备生长了AlGaN外延层。Al组分高达0.6、厚度大于1μm的AlGaN外延层表面光亮,晶体质量较好,(0002)X射线衍射回摆曲线半峰宽FWHM为853弧秒。当反应室气压从5×103Pa降到2×103Pa后,AlGaN外延层的生长速率和固相Al组分都显著提高。
赵红邹泽亚赵文伯杨晓波刘挺廖秀英王振周勇刘万清
关键词:MOCVDALGAN
共1页<1>
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