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孔岑

作品数:23 被引量:11H指数:2
供职机构:南京电子器件研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金江苏省自然科学基金江苏省科技支撑计划项目更多>>
相关领域:电子电信电气工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 16篇期刊文章
  • 6篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 17篇电子电信
  • 5篇电气工程
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 5篇电路
  • 5篇SI基
  • 4篇电子迁移率
  • 4篇迁移率
  • 4篇集成电路
  • 4篇ALGAN/...
  • 4篇ALGAN/...
  • 4篇MMIC
  • 3篇单片
  • 3篇氮化镓
  • 3篇晶体管
  • 3篇过渡层
  • 3篇高电子迁移率
  • 3篇高电子迁移率...
  • 3篇ALGAN
  • 2篇单片微波
  • 2篇单片微波集成...
  • 2篇电容
  • 2篇压控
  • 2篇压控电容

机构

  • 22篇南京电子器件...
  • 2篇电子科技大学
  • 1篇东南大学
  • 1篇南方科技大学

作者

  • 23篇孔岑
  • 19篇周建军
  • 13篇陈堂胜
  • 11篇孔月婵
  • 8篇董逊
  • 8篇李忠辉
  • 7篇陆海燕
  • 7篇倪金玉
  • 6篇耿习娇
  • 3篇李辉
  • 3篇张有涛
  • 3篇陈辰
  • 3篇郁鑫鑫
  • 2篇刘涛
  • 2篇陈效建
  • 2篇张凯
  • 1篇张东国
  • 1篇张万里
  • 1篇冯军
  • 1篇李建平

传媒

  • 15篇固体电子学研...
  • 3篇第13届全国...
  • 2篇2012全国...
  • 1篇电力电子技术
  • 1篇2013‘全...

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2019
  • 1篇2017
  • 1篇2015
  • 3篇2014
  • 7篇2013
  • 4篇2012
  • 3篇2011
  • 2篇2010
23 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
含厚AlGaN过渡层的Si基GaN材料的MOCVD生长技术研究
倪金玉郁鑫鑫潘磊董逊孔岑周建军李忠辉孔月婵陈堂胜
氧等离子体处理对薄势垒增强型AlGaN/GaN HEMT的影响
2015年
提出了一种利用薄势垒结构制造增强型AlGaN/GaN HEMT的方法。研究了SiN钝化对薄势垒AlGaN/GaN异质结的影响,并利用其控制沟道中的二维电子气密度。具有10nm SiN介质插入层欧姆接触在800℃下退火可以得到较好的接触性能。栅极区域中的SiN被刻蚀,以耗尽下面的二维电子气,从而使薄势垒AlGaN/GaN HEMT实现增强特性,其阈值电压为50 mV。对介质刻蚀后暴露的AlGaN表面进行氧等离子体处理,与未经处理的器件作对比,发现阈值电压提升到0.5V,栅漏电降低了一个数量级,击穿特性得到改善,但是最大饱和电流密度降低了。
王哲力周建军孔月婵孔岑董逊杨洋陈堂胜
关键词:氮化镓高电子迁移率晶体管增强型氧等离子体处理
BST片上压控电容及其模型
在氮化镓外延材料上制作了金属-绝缘层-金属型钛酸锶钡薄膜压控电容.测试表明,该压控电容在0.1~15GHz的频率范围内具备压控调谐特性;根据测试结果建立了微波频段钛酸锶钡压控电容等效电路模型,模型与测试结果吻合.同批次制...
孔岑周建军李辉陆海燕耿习娇许晓军
关键词:压控电容钛酸锶钡薄膜高电子迁移率晶体管等效电路模型
文献传递
X波段GaN单片电路低噪声放大器被引量:3
2011年
采用0.25μm GaN HEMT制备工艺在AlGaN/GaN异质结材料上研制了高性能X波段GaN单片电路低噪声放大器。GaN低噪声单片电路采取两级微带线结构,10 V偏压下芯片在X波段范围内获得了低于2.2 dB的噪声系数,增益达到18 dB以上,耐受功率达到了27 dBm。在耐受功率测试中发现GaN低噪声HEMT器件存在一定的恢复效应,并进行了相应讨论。
周建军彭龙新孔岑李忠辉陈堂胜焦刚李建平
关键词:低噪声放大器微波单片集成电路
51级E/D模AlGaN/GaN HEMT集成环形振荡器
2013年
南京电子器件研究所基于76.2mm(3英寸)GaNHEMT圆片工艺,通过E模器件和E/D集成技术,在国内率先实现了5l级GaNE/D集成环形振荡器,工作电压为6V时振荡频率达404MHz,级延时为24.3ps。
孔月婵周建军孔岑董逊张有涛陆海燕陈堂胜
关键词:环形振荡器集成技术振荡频率工作电压圆片
增强型GaN功率器件及集成技术
2017年
针对氮化镓(GaN)功率器件的研制,采用栅区域势垒层减薄技术及p-GaN栅结构,分别研制了阈值电压2 V以上、击穿电压1 200 V以上的凹槽栅结构和阈值电压1.1 V、击穿电压350 V以上、输出电流10 A以上的p-GaN栅结构增强型GaN功率器件。同时基于栅区域势垒层减薄技术,开发了GaN增强型/耗尽型(E/D)集成技术,并展示了采用E/D集成技术研制的51级GaN环形振荡器验证电路,集成了106只晶体管,级延时仅24.3 ps。
周建军孔岑张凯孔月婵
关键词:功率器件氮化镓增强型集成技术
MMIC用铁磁薄膜电感研究
集成微电感是单片微波集成电路(MMIC)设计中实现阻抗匹配、直流偏置、移相和滤波等功能的重要无源器件,广泛应用在放大器、振荡器、混频器和匹配网络等单元电路中。将磁性材料集成到微电感中可以增加电感感值,有效减少线圈磁漏,是...
孔岑
关键词:单片微波集成电路铁磁薄膜微电感
GaN E/D集成电路研究与进展
近年来,随着GaN微波功率器件向实用化发展,GaN在高速数字和混和信号电路中的应用吸引了越来越广泛的关注,旨在充分发挥其高电子漂移速度和高击穿电压的优势,在保持高速性能的同时获得理想的电压摆幅[1].传统AlGaN/Ga...
孔月婵周建军孔岑张有涛董逊陈堂胜
MMIC用多层磁膜电感研究
2011年
采用磁控溅射生长磁膜工艺,结合BCB(苯并环丁烯)平坦化技术,首次制作了"金属线圈/磁膜/金属线圈(M/F/M)"和"磁膜/金属线圈/磁膜/金属线圈(F/M/F/M)"两种结构的多层磁膜电感,整个工艺与标准MMIC工艺兼容。在2 GHz处,"金属线圈/磁膜/金属线圈"结构电感的电感量为7.5 nH,品质因数为7.17,与相同结构同工艺同批次传统单层无磁膜电感相比分别提高了270%和47%;"磁膜/金属线圈/磁膜/金属线圈"结构电感的电感量为9 nH,品质因数为5.86,与传统电感相比分别提高了350%和25%。结果表明多层磁膜电感在低频范围(<5GHz)较传统电感有巨大优势。
孔岑李辉周建军陈效建陈辰耿习娇
关键词:多层结构单片微波集成电路
Si基GaN材料寄生导电层的研究被引量:1
2013年
通过对Si基GaN材料的电学性能进行测量分析,确认了该材料体系所特有的寄生导电层现象。研究了寄生导电层对Si基GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)微波功率性能和击穿性能的不良影响。通过材料生长工艺的优化,降低了寄生导电层的导电性,获得了击穿电压超过320V的Si基GaN HEMT功率电子器件。
倪金玉李忠辉孔岑周建军陈堂胜郁鑫鑫
共3页<123>
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