卢维尔
- 作品数：118 被引量：31H指数：4
- 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项北京市自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信机械工程更多>>
- 用于增加原子层沉积前驱体数量的方法
- 本发明公开一种用于增加原子层沉积前驱体数量的方法，其包括将衬底基片进行表面处理；将衬底放入原子层沉积设备的反应腔室中；将载气通入不同反应物瓶内，通过载气带出的反应物在溶剂瓶内进行反应，而生成前驱体；将前驱体输送到原子层沉...
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- 原子层沉积制备共掺的氧化锌薄膜的方法
- 本发明公开一种原子层沉积制备共掺的氧化锌薄膜的方法，包括将基片放入ALD反应腔室中，对基片及腔室管道进行加热，然后进行多组分的复合沉积；所述复合沉积包括在第一次锌源沉积后，分别引入一次包含III主族元素X的施主掺杂源的掺...
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- 一种石墨烯表面选区改性加工方法及装置
- 本发明公开了一种石墨烯表面选区改性加工方法及装置，所述方法包括：用激光扫描衬底样片表面的预设区域，以提高所述预设区域覆盖的石墨烯薄膜材料表面的悬挂键数量；采用原子层沉积方法，在所述衬底样片表面进行薄膜沉积，以在所述预设区...
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- 用于Te-N共掺氧化锌薄膜的制备方法
- 本发明公开一种用于Te-N共掺氧化锌薄膜的制备方法，其包括将衬底进行清洗和表面前处理；将衬底放入原子层沉积设备的反应腔室中；对衬底、管道及腔室进行加热；然后依次分别进行锌源、掺杂源Te、掺杂N源和氧源的沉积。本发明提供的...
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- 原子层沉积制备N-Zr共掺的氧化锌薄膜的方法
- 本发明公开一种原子层沉积制备N‑Zr共掺的氧化锌薄膜的方法，包括将基片放入ALD反应腔室中，对基片及腔室管道进行加热，然后进行多组分的复合沉积；所述复合沉积包括在第一次锌源沉积后，分别引入一次含掺杂元素Zr的掺杂源的掺杂...
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- 一种掺杂的碘化亚铜薄膜的制备方法
- 本申请公开了一种掺杂的碘化亚铜薄膜的制备方法，包括:在原子层沉积反应腔室中放置衬底，将所述反应腔室抽真空并开始进行加热处理，其中，加热对象包括基底、反应腔室、管路、反应源；所述衬底包括硅、蓝宝石、玻璃中的一种；待所述加热...
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- 基于氮的施主-受主共掺氧化锌薄膜的制备方法
- 本发明公开一种基于氮的施主-受主共掺氧化锌薄膜的制备方法，包括将基片放入ALD反应腔室中，对基片及腔室管道进行加热，然后依次进行多组分的复合沉积；所述复合沉积包括在第一次锌源沉积后，分别引入一次包含III主族元素X的施主...
- 卢维尔夏洋李超波张阳解婧董亚斌
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- 一种制备低表面粗糙度氧化锌薄膜的方法
- 本发明公开了一种制备低表面粗糙度氧化锌薄膜的方法，属于氧化锌薄膜制备技术领域。所述方法包括：原子层沉积设备通入含锌源气体和含氧源气体，在原子层沉积设备反应腔中的硅衬底表面生长氧化锌薄膜；原子层沉积设备通入含铝源气体和含氧...
- 张阳董亚斌卢维尔解婧李超波夏洋
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- 一种X射线波带片制备系统
- 本发明涉及一种X射线波带片制备系统。所述系统包括：腔室；第一前驱体通入管路，第一前驱体通入管路与腔室的一端连通，用于将第一前驱体输送进腔室；第二前驱体通入管路，第二前驱体通入管路与腔室的一端连通，用于将第二前驱体输送进腔...
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- 基于原子层沉积技术的高精度多层膜X射线菲涅尔波带片的制备研究被引量：4
- 2021年
- 基于原子层沉积与聚焦离子束切割抛光相结合的工艺,提出了一种多层膜型波带片制备技术。利用耦合波理论计算出最外环宽为10 nm的Al2O3/HfO2、Al2O3/SiO2、Al2O3/Ir和Al2O3/Ta2O5四种材料组合的多层膜波带片在X射线能量为8 keV和15 keV时的菲涅尔波带片的理论衍射效率,讨论了最外环宽和波带片高度对衍射效率的影响,选择了Al2O3/HfO2为后续叠层制备。研究了原子层沉积制备Al2O3和HfO2薄膜的生长特性,验证了原子层沉积技术制备单层膜厚为10 nm叠层结构的可行性,实验结果表明,利用原子层沉积技术制备Al2O3和HfO2薄膜粗糙度可控在1 nm,均匀性优于±1.5%,单叠层厚度误差仅为0.416 nm.同时,利用聚焦离子束切割抛光技术得到了最外环宽为10 nm,高宽比200的高分辨率X射线菲涅尔波带片。
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- 关键词：原子层沉积聚焦离子束高分辨率耦合波理论
