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叶红

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所更多>>
相关领域：文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

领域

  • 1篇文化科学

主题

  • 2篇修正法
  • 2篇数据拼接
  • 2篇内切
  • 2篇内切圆
  • 2篇内切圆半径
  • 2篇工艺用
  • 2篇光刻
  • 2篇光刻版
  • 2篇步进
  • 2篇圆半径

机构

  • 2篇中国电子科技...

作者

  • 2篇王玉林
  • 2篇毛臻琪
  • 2篇袁卓颖
  • 2篇叶红
  • 2篇王刚明

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2012
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
图形化衬底工艺用步进光刻掩膜版数据拼接方法和修正法
本发明是图形化衬底制造工艺用步进光刻掩膜版的数据拼接方法及修正方法，包括如下工艺：确定光刻掩膜版上小圆的尺寸和间隔尺寸；确定小圆正三角形排列之正三角形边长，设边长为a；作出以1/2a为内切圆半径的正六边形，并将该正六边形...
叶红王玉林袁卓颖毛臻琪王刚明
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图形化衬底工艺用步进光刻掩膜版数据拼接方法和修正法
本发明是图形化衬底制造工艺用步进光刻掩膜版的数据拼接方法及修正方法，包括如下工艺：确定光刻掩膜版上小圆的尺寸和间隔尺寸；确定小圆正三角形排列之正三角形边长，设边长为a；作出以1/2a为内切圆半径的正六边形，并将该正六边形...
叶红王玉林袁卓颖毛臻琪王刚明
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