您的位置: 专家智库 > >

领域

  • 5个电子电信
  • 3个自动化与计算...
  • 1个化学工程
  • 1个电气工程
  • 1个航空宇航科学...
  • 1个一般工业技术
  • 1个理学

主题

  • 4个电荷耦合
  • 4个电荷耦合器
  • 4个电荷耦合器件
  • 4个电路
  • 4个图像
  • 4个图像传感器
  • 4个显影
  • 4个线阵CCD
  • 3个多晶
  • 3个多晶硅
  • 3个雪崩
  • 3个雪崩光电二极...
  • 3个离子注入
  • 2个氮化
  • 2个氮化硅
  • 2个低损耗
  • 2个低压化学气相...
  • 2个电路制造
  • 2个淀积
  • 2个栅介质

机构

  • 5个重庆光电技术...
  • 1个电子科技大学

资助

  • 1个国家杰出青年...
  • 1个国家重大航天...
  • 1个教育部“新世...
  • 1个中国人民解放...

传媒

  • 5个电子技术(上...
  • 5个半导体光电
  • 3个电子科技
  • 2个集成电路应用
  • 1个光电子.激光
  • 1个物理学报
  • 1个红外技术
  • 1个材料导报
  • 1个物理化学学报
  • 1个中国科学(E...
  • 1个传感技术学报
  • 1个航天器工程
  • 1个第八届中国微...

地区

  • 5个重庆市
5 条 记 录,以下是 1-5
钟玉杰
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 图像传感器 电荷耦合器件 辐照 均匀性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁安波
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖乃镘
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷仁方
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曾武贤
供职机构:重庆光电技术研究所
研究主题:CCD I-A APD 保护环 硅基
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共1页<1>
聚类工具0