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张故万

作品数：6 被引量：5H指数：1
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 18个电子电信
  • 3个化学工程
  • 2个自动化与计算...
  • 2个理学
  • 1个航空宇航科学...

主题

  • 16个CCD
  • 12个电荷耦合
  • 12个电荷耦合器
  • 12个电荷耦合器件
  • 12个退火
  • 10个栅介质
  • 9个光刻
  • 8个低温退火
  • 8个吸杂
  • 8个本征
  • 8个本征吸杂
  • 7个淀积
  • 6个低压化学气相...
  • 6个多晶
  • 6个多晶硅
  • 6个气相淀积
  • 6个刻蚀
  • 6个化学气相
  • 5个微结构
  • 5个量子效率

机构

  • 17个重庆光电技术...
  • 1个重庆教育学院

资助

  • 1个国防科技技术...
  • 1个国家重大航天...

传媒

  • 18个半导体光电
  • 4个电子科技
  • 3个2004全国...
  • 2个电子技术（上...
  • 2个集成电路应用
  • 1个数字通信
  • 1个半导体情报
  • 1个航天器工程
  • 1个重庆邮电大学...
  • 1个中国检验检测

地区

  • 18个重庆市
共 18 条 记 录，以下是 1-10
雷仁方
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 电荷耦合器件 光刻 辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
伍明娟
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 穿刺 铝 金属化 接触孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴可
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 光刻 复合介质 界面态密度 界面态
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李仁豪
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 TDI 读出电路 表面光电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁安波
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 光刻 选择比 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋爱民
供职机构：重庆教育学院
研究主题：MOCVD 单量子阱 半导体激光器 摆方程 相干
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈捷
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 本征吸杂 电荷耦合器件 低温退火 栅介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许宏
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD MPP 本征吸杂 暗电流密度 暗电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD TDI 高分辨率 可见光CCD 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汪琳
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 本征吸杂 电荷耦合器件 低温退火 栅介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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