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刘海晓

作品数：4 被引量：18H指数：4
供职机构：河北工业大学更多>>
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相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

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主题

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  • 8个机械抛光
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  • 3个低介电常数材...
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  • 3个电偶
  • 3个电偶腐蚀

机构

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资助

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传媒

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  • 2个稀有金属
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  • 2个电子器件
  • 2个微细加工技术
  • 1个现代化工
  • 1个教育与职业
  • 1个粉末冶金技术

地区

  • 5个天津市
  • 1个北京市
  • 1个新疆
  • 1个河北省
共 8 条 记 录，以下是 1-8
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘效岩
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晖
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 速率 去除速率 超纯水 机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡轶
供职机构：新疆师范大学化学化工学院
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 碱性抛光液 抛光速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
梁艳
供职机构：河北化工医药职业技术学院
研究主题：PH值 碱性 化学机械抛光 纳米SIO 溶胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周建伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵巧云
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP ULSI 硅衬底 化学机械抛光 稳定性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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